公开(公告)号：CN104718479B

公开(公告)日：2018-11-20

申请号：CN201380049502.7

申请日：2013-07-24

Applicant: 瑞士CSEM电子显微技术研发中心

Inventor： 奥马尔·斯库利 ,  大卫·皮雷斯 ,  纪尧姆·巴塞 ,  马丁·斯塔尔德

IPC: G02B6/34 ,  F21V8/00

Abstract: 本发明涉及一种用于构造光耦合系统的方法，其中，光栅被制造在多模波导的表面上并且限定了波导针对入射光束的入口，所述光栅包括重复图案。光栅由一组参数进行限定，该组参数包括：分隔两个相邻图案的光栅周期(P)，图案的最高点和最低点之间的光栅深度(d)，入射光相对于波导的入射角均值(θ)。该方法包括对该组参数进行优化以获得优化的第二组参数的步骤，从而使在入射光的给定波长下，对于非偏振光，获得的入射光进入所述波导的一阶衍射或二阶衍射的透射效率(Ce)超过35％，或对于偏振光，获得的所述透射效率超过50％。

公开(公告)号：CN104718479A

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：CN201380049502.7

申请日：2013-07-24

Applicant: 瑞士CSEM电子显微技术研发中心

Inventor： 奥马尔·斯库利 ,  大卫·皮雷斯 ,  纪尧姆·巴塞 ,  马丁·斯塔尔德

IPC: G02B6/34 ,  F21V8/00

CPC classification number: G02B6/34 ,  B29D11/00692 ,  B29L2011/0075 ,  G02B6/2793 ,  G02B6/29323 ,  G02B6/29329 ,  G02B6/29397

Abstract: 本发明涉及一种用于构造光耦合系统的方法，其中，光栅被制造在多模波导的表面上并且限定了波导针对入射光束的入口，所述光栅包括重复图案。光栅由一组参数进行限定，该组参数包括：分隔两个相邻图案的光栅周期(P)，图案的最高点和最低点之间的光栅深度(d)，入射光相对于波导的入射角均值(θ)。该方法包括对该组参数进行优化以获得优化的第二组参数的步骤，从而使在入射光的给定波长下，对于非偏振光，获得的入射光进入所述波导的一阶衍射或二阶衍射的透射效率(Ce)超过35％，或对于偏振光，获得的所述透射效率超过50％。