基材膜及工件加工用片
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117279984A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202280032218.8

    申请日:2022-09-27

    Abstract: 本发明提供一种基材膜,其具备含有聚酯树脂及高分子型抗静电剂的第一树脂层,所述聚酯树脂具有脂环结构,且其通过差示扫描量热法以20℃/分钟的升温速度测定的熔解热为2J/g以上,所述高分子型抗静电剂含有高分子化合物及由有机阳离子与有机阴离子构成的有机盐,且基本上不含有碱金属盐及碱土金属盐,所述基材膜的至少一个面的表面电阻率为1×106Ω/□以上且1×1015Ω/□以下。所述基材膜充分抑制切削屑的产生,同时具有优异的防止尘埃附着的性能,并抑制杂质离子的产生。

    基材膜及工件加工用片
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116802224A

    公开(公告)日:2023-09-22

    申请号:CN202180091743.2

    申请日:2021-12-08

    Abstract: 本发明提供一种基材膜,其为具备含有聚酯树脂的第一树脂层的基材膜,所述聚酯树脂具有脂环结构,且其通过差示扫描量热法以20℃/min的升温速度所测定的熔解热为2J/g以上,所述基材膜的至少一个面的表面电阻率为1×106Ω/□以上且1×1015Ω/□以下。所述基材膜能够充分抑制切削屑的产生,且同时具有优异的防止尘埃附着的性能,使用该基材膜所构成的工件加工用片能够良好地发挥上述功能。

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