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公开(公告)号：CN109314368B
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN201780034644.4
申请日：2017-06-20
Applicant: 特拉迪欧德公司
Abstract: 在各种实施方式中，诸如二极管线阵的激光发射器通过由在激光发射器所位于的冷却器中的端口形成的冷却流体的喷射流在操作期间被冷却。喷射流射到冷却器的撞击表面上，所述撞击表面热耦合到激光发射器但防止在冷却流体和激光发射器本身之间的直接接触。
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公开(公告)号：CN108780189A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780016716.2
申请日：2017-04-05
Applicant: 特拉迪欧德公司
Inventor： 周望龙 , F·维拉里尔-绍塞多 , P·塔耶巴提 , B·陈
IPC: G02B6/036
CPC classification number: G02B6/32 , G02B6/02042 , G02B6/03644 , G02B6/34 , G02B6/4214 , G02B17/00 , G02B2006/12104 , G02B2006/12121 , H01S5/005 , H01S5/0071 , H01S5/143 , H01S5/4031 , H01S5/405 , H01S5/4062 , H01S5/4087 , H01S2301/20
Abstract: 在各种实施例中，利用具有中央纤芯、第一包层、环形纤芯和第二包层的阶梯包层光纤来调节激光束的光束参数乘积和/或数值孔径。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109314368A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780034644.4
申请日：2017-06-20
Applicant: 特拉迪欧德公司
Abstract: 在各种实施方式中，诸如二极管线阵的激光发射器通过由在激光发射器所位于的冷却器中的端口形成的冷却流体的喷射流在操作期间被冷却。喷射流射到冷却器的撞击表面上，所述撞击表面热耦合到激光发射器但防止在冷却流体和激光发射器本身之间的直接接触。
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公开(公告)号：CN104428962B
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201380019511.1
申请日：2013-02-14
Applicant: 特拉迪欧德公司
IPC: H01S3/10
CPC classification number: H01S3/0826 , G02B27/1006 , H01S3/08 , H01S3/08054 , H01S3/139 , H01S3/2391 , H01S5/005 , H01S5/141 , H01S5/143 , H01S5/4012 , H01S5/4068 , H01S5/4087
Abstract: 一种用于使用WBC以及WDM技术两者来稳定多个经发射光束并且将其组合到单个系统中的系统和方法。
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公开(公告)号：CN107771299B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN201680036243.8
申请日：2016-06-21
Inventor： 陈斌 , 周望龙 , P·塔耶巴提 , F·维拉里尔-绍塞多
Abstract: 在各种实施方式中，激光输送系统的特征在于用于接收辐射光束并改变其空间功率分布的一个或多个光学元件、用于改变在辐射光束的路径内的至少一个光学元件的位置的透镜操纵系统和用于控制透镜操纵系统以实现在工件上的作为目标的改变的空间功率分布的控制器。
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公开(公告)号：CN107771299A
公开(公告)日：2018-03-06
申请号：CN201680036243.8
申请日：2016-06-21
Inventor： 陈斌 , 周望龙 , P·塔耶巴提 , F·维拉里尔-绍塞多
CPC classification number: G02B27/0927 , G02B7/005 , G02B19/0057 , G02B27/0944 , G02B27/0961 , G02B27/1086 , G02B27/30
Abstract: 在各种实施方式中，激光输送系统的特征在于用于接收辐射光束并改变其空间功率分布的一个或多个光学元件、用于改变在辐射光束的路径内的至少一个光学元件的位置的透镜操纵系统和用于控制透镜操纵系统以实现在工件上的作为目标的改变的空间功率分布的控制器。
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