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公开(公告)号：CN102645407A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201210025414.0
申请日：2012-02-06
Applicant: 爱科来株式会社
CPC classification number: G01N21/3581 , G01N21/3577
Abstract: 本发明涉及太赫兹波的特性测量方法和装置、物质检测方法和装置。所述太赫兹波的特性测量方法包括：在溶液的厚度为10μm～100μm的区域照射太赫兹波以使所述太赫兹波的传播方向为所述溶液的厚度方向，所述溶液包含至少一种类型的待测量的目标物质；和测量透过所述区域的太赫兹波和由所述区域反射的太赫兹波之一的光谱特性和特定频率或特定波长下的强度中的至少一项。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN105699315A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201510930890.0
申请日：2015-12-15
Applicant: 爱科来株式会社
Inventor： 内田裕久
IPC: G01N21/3581
Abstract: 太赫兹波测量装置、测量方法以及测量仪器。提供了一种太赫兹波测量装置，该太赫兹波测量装置包括：(1)太赫兹波产生元件，该太赫兹波产生元件基于入射到所述太赫兹波产生元件的激发光通过差频生成产生太赫兹波，激发光包括多个不同波长分量并且被汇聚以便具有预定大小的光束直径；(2)结构体，太赫兹波透射通过该结构体；以及(3)检测器，该检测器检测已透射通过结构体的太赫兹波的强度，其中，结构体包括保持样品的预定宽度的样品架，并且该结构体与太赫兹波产生元件紧密接触或者相接合。
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公开(公告)号：CN105699315B
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201510930890.0
申请日：2015-12-15
Applicant: 爱科来株式会社
Inventor： 内田裕久
IPC: G01N21/3581
Abstract: 太赫兹波测量装置、测量方法以及测量仪器。提供了一种太赫兹波测量装置，该太赫兹波测量装置包括：(1)太赫兹波产生元件，该太赫兹波产生元件基于入射到所述太赫兹波产生元件的激发光通过差频生成产生太赫兹波，激发光包括多个不同波长分量并且被汇聚以便具有预定大小的光束直径；(2)结构体，太赫兹波透射通过该结构体；以及(3)检测器，该检测器检测已透射通过结构体的太赫兹波的强度，其中，结构体包括保持样品的预定宽度的样品架，并且该结构体与太赫兹波产生元件紧密接触或者相接合。
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公开(公告)号：CN102629065B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201210021833.7
申请日：2012-01-31
Applicant: 爱科来株式会社
Inventor： 内田裕久
CPC classification number: G02F1/3501 , G02F1/3534 , G02F2001/3507 , G02F2201/16 , G02F2203/13
Abstract: 光学晶体和太赫兹波生成装置及方法。一种光学晶体包括：第一非线性光学晶体，该第一非线性光学晶体通过差频生成来生成与具有两个不同波长的入射光中的差频成分相对应的太赫兹波；以及第二非线性光学晶体，该第二非线性光学晶体通过差频生成来生成与具有两个不同波长的入射光中的差频成分相对应的太赫兹波，所述第二非线性光学晶体在材料方面与所述第一非线性光学晶体不同，并且所述第一非线性光学晶体和所述第二非线性光学晶体被设置成彼此接触或靠近。
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公开(公告)号：CN102629065A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210021833.7
申请日：2012-01-31
Applicant: 爱科来株式会社
Inventor： 内田裕久
CPC classification number: G02F1/3501 , G02F1/3534 , G02F2001/3507 , G02F2201/16 , G02F2203/13
Abstract: 光学晶体和太赫兹波生成装置及方法。一种光学晶体包括：第一非线性光学晶体，该第一非线性光学晶体通过差频生成来生成与具有两个不同波长的入射光中的差频成分相对应的太赫兹波；以及第二非线性光学晶体，该第二非线性光学晶体通过差频生成来生成与具有两个不同波长的入射光中的差频成分相对应的太赫兹波，所述第二非线性光学晶体在材料方面与所述第一非线性光学晶体不同，并且所述第一非线性光学晶体和所述第二非线性光学晶体被设置成彼此接触或靠近。
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