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公开(公告)号：CN110870389A
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201880037766.3
申请日：2018-05-24
Applicant: 爱克瑞威亚公司
Inventor： F·开米培瑞特
Abstract: 所述方法包括以下步骤：提供等离子割炬，所述等离子割炬包括电极(3)、第一装置(11、12、13)、第二喷嘴(5)和供气装置(14、15、16)，所述电极设置在第一喷嘴(4)内，所述第一喷嘴具有面向所述电极(3)的末端的第一出口部分(9)，所述第一装置用于向所述第一喷嘴(4)供应气体，所述第二喷嘴同心地围绕所述第一喷嘴(4)布置并具有第二出口部分(10)，所述第二出口部分基本面向所述第一出口部分(9)，所述供气装置位于所述第一喷嘴(4)和所述第二喷嘴(5)之间，向所述电极供应电流，并向所述第一喷嘴(4)和所述第二喷嘴(5)供应气体，以便与引入所述第一喷嘴(4)的气体形成等离子体，控制所述第一喷嘴(4)的所述出口处的所述第二喷嘴(5)中的等离子流(1)周围的环境压力(P2)，以便至少高于大气压并低于所述第一出口部分(9)中的压力(Pj)。
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公开(公告)号：CN110870389B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN201880037766.3
申请日：2018-05-24
Applicant: 爱克瑞威亚公司
Inventor： F·开米培瑞特
Abstract: 所述方法包括以下步骤：提供等离子割炬，所述等离子割炬包括电极(3)、第一装置(11、12、13)、第二喷嘴(5)和供气装置(14、15、16)，所述电极设置在第一喷嘴(4)内，所述第一喷嘴具有面向所述电极(3)的末端的第一出口部分(9)，所述第一装置用于向所述第一喷嘴(4)供应气体，所述第二喷嘴同心地围绕所述第一喷嘴(4)布置并具有第二出口部分(10)，所述第二出口部分基本面向所述第一出口部分(9)，所述供气装置位于所述第一喷嘴(4)和所述第二喷嘴(5)之间，向所述电极供应电流，并向所述第一喷嘴(4)和所述第二喷嘴(5)供应气体，以便与引入所述第一喷嘴(4)的气体形成等离子体，控制所述第一喷嘴(4)的所述出口处的所述第二喷嘴(5)中的等离子流(1)周围的环境压力(P2)，以便至少高于大气压并低于所述第一出口部分(9)中的压力(Pj)。
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