一种含有噻吩侧基的聚吡咯衍生物及其制备方法

    公开(公告)号:CN117362640A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202311440054.5

    申请日:2023-11-01

    Applicant: 滁州学院

    Abstract: 本发明公开了一种含有噻吩侧基的聚吡咯衍生物及其制备方法,属于高分子荧光材料技术领域。本发明通过将一定浓度的3‑噻吩甲醛的二氧六环溶液在搅拌的条件下加入浓硫酸;再将N‑甲基吡咯溶于二氧六环中,滴加到反应体系中,再补加浓硫酸;持续搅拌,得到硫酸掺杂的含有噻吩侧基的聚吡咯衍生物溶液;再通过氨水浸泡的方式除去杂质,得到一种全新结构的含有噻吩侧基的聚吡咯衍生物,该高分子荧光材料具有制备工艺简单、溶解性好、热稳定性高、荧光强度和量子产率大等特点。

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