一种暴露高能(001)晶面超薄CdS纳米带的制备方法

    公开(公告)号:CN107098377B

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201710428143.6

    申请日:2017-06-08

    Applicant: 湘潭大学

    Abstract: 本发明公开了一种暴露(001)晶面的超薄CdS纳米带的制备方法,制备过程如下:(1)将无机镉盐,去离子水,二亚乙基三胺和硫粉混均,在搅拌下进行溶剂热反应;得溶剂热产物;(2)将溶剂热产物分散于去离子水中,超声剥离,制得暴露(001)晶面的超薄CdS纳米带。本发明具有如下技术效果:1.制备出CdS纳米带主要暴露(001)高能晶面,具有电子定向传输且传输速率快、特殊的光学性能等特点;2.CdS纳米带厚度很薄,可增大了比表面积,大大缩短了光生电荷传输到催化剂表面的迁移距离,有效抑制了光生电子和空穴对发生体相复合几率;3.在波长大于420nm可见光辐照下,并不负载任何助催化剂的情况下,CdS纳米带的产氢效率高达59.7mmol/h/g催化剂,并且光照50h,催化活性无明显降低;4.本发明具有操作简单、反应温度低、重复性好等优点。

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