一种光学防伪纳米复合结构及其应用

    公开(公告)号:CN111474613A

    公开(公告)日:2020-07-31

    申请号:CN202010308185.8

    申请日:2020-04-18

    Applicant: 湖南大学

    Inventor: 李梓维 王亚娟

    Abstract: 本发明公开了一种光学防伪纳米复合结构,从上至下依次为金纳米螺旋层、二硫化钼发光层、二氧化硅薄层、金薄层以及硅片,金纳米螺旋层是两匝的阿基米德螺旋光栅结构,螺旋的起始半径为140nm-160nm,光栅宽度为90nm-110nm,光栅间距为180nm-220nm,厚度为30nm-40nm;二硫化钼发光层为单层二硫化钼薄膜,厚度约为1nm,荧光发光中心波长为660nm;二氧化硅薄层厚度为15nm-25nm;金薄层厚度为95nm-105nm;硅片为 或 晶向单面抛光本征单晶硅片。本发明基于光的自旋轨道耦合的物理原理,通过精准设计纳米螺旋结构,利用偏振光的动态变化,有效调控材料激子-等离激元光子的相互作用,通过纳米螺旋结构的阵列组合,可以实现带有图案化的光发射阵列,在荧光防伪标识领域具有较大应用潜力。

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