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发明公开
一种大粒径晶圆片用高纯单质改性硅溶胶抛光液及其制备方法审中-实审

公开(公告)号：CN117343645A

公开(公告)日：2024-01-05

申请号：CN202311230849.3

申请日：2023-09-22

Applicant: 湖北工业大学

Inventor： 夏军勇 , 肖凯 , 李比为 , 严国平 , 杨小俊

IPC: C09G1/02 , H01L21/02

Abstract: 本发明涉及一种大粒径晶圆片用高纯单质改性硅溶胶抛光液及其制备方法，所述抛光液包括以下重量份的原料：12—15份硅溶胶，3—5份碱性调节剂，1—2份山梨坦单硬脂酸酯，1—2份有机络合清洗剂，2—3份螯合剂，3—5份十二烷基硫酸钠，2—3份甲基戊醇，4—6份碱性调节剂，3—5份表面活性修饰剂，1—2份聚天冬氨酸，2—3份抛光平衡剂和50—80份去离子水；所述碱性调节剂为NaOH、KOH、Na2CO3和K2CO3中的一种或几种混合物；所述螯合剂为多磷酸钠和1,3—二酮中的一种或几种混合物。本发明不仅提高了大粒径晶圆片的抛光效率，而且提高了抛光效果。

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