公开(公告)号：CN118389990A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202410507157.7

申请日：2024-04-25

申请人： 温州职业技术学院

发明人： 郎文昌 ,  张晓健 ,  王启民 ,  胡晓忠 ,  吴世琛

IPC分类号： C23C8/38

摘要： 本发明提供一种高效不锈钢低温渗氮方法及其装置，通过离子源产生高密度的氩离子和电子，利用阳极吸引离子源产生的电子，在电子运动的过程中电离存在于腔体中的氮气和氢气，此外还可避免电子对不锈钢基体产生额外的轰击加热而影响渗氮样品的质量；在沉积腔体周围设有磁场，利用等离子体在磁场中的运动规律可以提高位于不同转架位置上样品渗氮层厚度的均匀性。本方法通过离子源产生的高密度的电子来电离氮气，并通过往基体上施加偏压和腔体内的磁场来提高所得渗氮层的质量，可以在较低的温度下（≤300℃），短时间内（≤100min）得到厚度较高（≥60μm）且均匀的渗氮层，进一步提高了不锈钢的使用性能。

公开(公告)号：CN221453197U

公开(公告)日：2024-08-02

申请号：CN202322827880.7

申请日：2023-10-21

申请人： 温州大学 ,  温州职业技术学院

发明人： 吴世琛 ,  张晓健 ,  胡晓忠 ,  郎文昌

IPC分类号： B05D1/00

摘要： 本实用新型提供了一种用于真空镀膜设备的反应原料供给装置，包括增压泵和进料管，所述进料管包括位于镀膜装置腔室外的第一进料管和与第一进料管相连的延伸至腔室内的第二进料管，所述进料管均配合设置有对管内物料加热使其气化的加热装置；在本技术方案中，第一进料管初级气化处理反应原料避免液态反应原料堆积；第二进料管能够将经由初步气化的反应原料充分气化，从而减少或者避免未完全气化的反应原料进入镀膜装置。

公开(公告)号：CN220952028U

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202322849327.3

申请日：2023-10-21

申请人： 温州大学 ,  温州职业技术学院

发明人： 张晓健 ,  吴世琛 ,  胡晓忠 ,  郎文昌

IPC分类号： C23C14/50 ,  C23C16/458

摘要： 本实用新型提供了一种真空镀膜装置的可移动磁组件，可移动磁组件配合设置有用于驱动可移动磁板相对于靶面往复运动的第一驱动机构，可移动磁组件包括固定在可移动磁板中间位置的长条形凹槽中的条形永磁体，以及固定的在可移动磁板外围位置的环形永磁体；可移动磁板的背面安装有与条形永磁体通过开槽相连接的、可带动条形永磁体在磁板中做横向运动的条形磁体移动电机；本技术方案中的磁组件配合设置第一驱动机构和条形磁体移动电机，既可调整磁组件到靶面的距离，又可调整相对靶面的横向上的位置，从而改变靶面各区域的磁场强度，满足真空镀膜的要求，提高了阴极的工艺灵活性和多样性，可以获得成膜均匀性、一致性好的薄膜材料。