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公开(公告)号：CN101403851A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200810217299.0
申请日：2008-11-07
申请人： 清溢精密光电(深圳)有限公司
发明人： 王金木
IPC分类号： G03F1/00
摘要： 本发明适用于掩膜版缺陷修补方法技术领域，提供了一种用于修补的油墨，包括下述重量份的原料：连接剂：78％～94％wt，颜料：5％～20％wt，稀释剂：0.5％～2％wt，其中，所述连接剂是一种环氧树脂或酚醛树脂；所述颜料为碳粉，如石墨；所述稀释剂为甲苯、二甲苯、三甲基苯、松节油或樟脑油中的任一种。本发明还提供一种采用上述油墨修补干版针孔类缺陷的方法。采用本发明所提供的油墨及修补干版针孔类缺陷的方法，可以有效地修补干版针孔类缺陷，且可以使经过修补的干版能够抵抗有机清洗剂、无机清洗剂或去离子水的多次擦试和清洗，粘附力和阻光性极好，有效提高了干版的质量。
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公开(公告)号：CN101403868B
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN200810217298.6
申请日：2008-11-07
申请人： 清溢精密光电(深圳)有限公司
发明人： 王金木
摘要： 本发明适用于显影液恒温技术领域，提供了一种掩膜版显影液恒温方法，设置一第一次热交换系统和一第二次热交换系统，所述第一次热交换系统通过热交换的方式将用于放置显影槽之水域槽中的循环水制冷，随后进入第二次热交换系统；所述第二次热交换系统将制冷后的循环水与置于所述显影槽中的显影液进行热交换，如此反复循环，使显影液稳定在所需的某一温度；还提供了一种上述恒温方法所采用的恒温装置，包括一第一次热交换系统和一第二次热交换系统。本发明所采用的掩膜版显影液恒温方法及恒温装置，解决了掩膜版显影液温度不稳定的问题，同时也解决了显影液中杂质过多造成掩膜版品质异常的问题，从而提高了掩膜版的精度和品质。
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公开(公告)号：CN101403852A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200810217297.1
申请日：2008-11-07
申请人： 清溢精密光电(深圳)有限公司
发明人： 王金木
摘要： 本发明涉及一种A型胶，包括下述重量份的原料：金属纳米阻光材料：58％～78％wt，固化剂：20％～40％wt，稀释剂：0.5％～2％wt，玻璃促进剂：0.1％～1％wt，所述金属纳米阻光材料为粉状的金、银、镍、锡或氧化铝中的任一种，所述固化剂为环氧树脂或酚醛树脂，所述稀释剂为甲苯、二甲苯、三甲苯、松节油或樟脑油中的任一种，所述玻璃促进剂为硅胶；还提供了一种采用上述A型胶修补铬版白缺陷的方法。本发明所提供的A型胶及采用该A型胶修补铬版白缺陷的方法，解决了油墨无法修补凹陷及断线、金属修补液修补后不耐弱碱性清洗液清洗以及使用CVD修补无法修补玻璃基板造成的白缺陷的问题，且保证了修补后的黏附力。
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公开(公告)号：CN101510046A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200810216960.6
申请日：2008-10-23
申请人： 清溢精密光电(深圳)有限公司
发明人： 王金木
摘要： 本发明涉及一种去除干版或菲林中霉点的处理液，由按重量百分比的下述组分配制而成：有机酸：1－3％，无机酸：1－10％，还原剂：1－3％，去离子水：85－95％，其中所述有机酸是草酸和/或乙酸，无机酸是硝酸、盐酸或硫酸。本发明还涉及采用上述处理液对干版或菲林中霉点进行处理的方法。采用本发明提供的处理液和处理方法，可以在较短时间内去除干板或菲林的霉点类缺陷，而不会影响到干版/菲林的图形层或乳胶层，克服了人工处理对干版或菲林表面的划伤、图形异常、表面污染等缺陷，并降低了由于此类缺陷无法修补或人工修补失败后造成的干版或菲林的报废率。
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公开(公告)号：CN101398610A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200810216959.3
申请日：2008-10-23
申请人： 清溢精密光电(深圳)有限公司
发明人： 王金木
摘要： 本发明涉及一种去除干版或菲林中黑缺陷的处理液，包括第一药剂和第二药剂，第一药剂按重量百分比含有无机酸：5－20％、重铬酸盐：5－20％、去离子水：60－90％，第二药剂按重量百分比含有还原剂5－20％以及去离子水80－95％。本发明还涉及采用上述处理液对干版或菲林中黑缺陷进行处理的方法。采用本发明提供的处理液和处理方法，可以在较短时间内去除干板或菲林的黑点类缺陷，而不会影响到干版/菲林的图形层或乳胶层，克服了人工处理对干版或菲林表面的划伤、图形异常、表面污染等缺陷，并降低了由于此类缺陷无法修补或人工修补失败后造成的干版或菲林的报废率。
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公开(公告)号：CN101403852B
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN200810217297.1
申请日：2008-11-07
申请人： 清溢精密光电(深圳)有限公司
发明人： 王金木
摘要： 本发明涉及一种铬版修补胶，包括下述重量份的原料：金属纳米阻光材料：58％～78％wt，固化剂：20％～40％wt，稀释剂：0.5％～2％wt，硅胶：0.1％～1％wt，所述金属纳米阻光材料为粉状的金、银、镍、锡或氧化铝中的任一种，所述固化剂为环氧树脂或酚醛树脂，所述稀释剂为甲苯、二甲苯、三甲苯、松节油或樟脑油中的任一种，所述玻璃促进剂为硅胶；还提供了一种采用上述铬版修补胶修补铬版白缺陷的方法。本发明所提供的铬版修补胶及采用该铬版修补胶修补铬版白缺陷的方法，解决了油墨无法修补凹陷及断线、金属修补液修补后不耐弱碱性清洗液清洗以及使用CVD修补无法修补玻璃基板造成的白缺陷的问题，且保证了修补后的黏附力。
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公开(公告)号：CN101403868A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200810217298.6
申请日：2008-11-07
申请人： 清溢精密光电(深圳)有限公司
发明人： 王金木
摘要： 本发明适用于显影液恒温技术领域，提供了一种掩膜版显影液恒温方法，设置一第一次热交换系统和一第二次热交换系统，所述第一次热交换系统通过热交换的方式将用于放置显影槽之水域槽中的循环水制冷，随后进入第二次热交换系统；所述第二次热交换系统将制冷后的循环水与置于所述显影槽中的显影液进行热交换，如此反复循环，使显影液稳定在所需的某一温度；还提供了一种上述恒温方法所采用的恒温装置，包括一第一次热交换系统和一第二次热交换系统。本发明所采用的掩膜版显影液恒温方法及恒温装置，解决了掩膜版显影液温度不稳定的问题，同时也解决了显影液中杂质过多造成掩膜版品质异常的问题，从而提高了掩膜版的精度和品质。
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公开(公告)号：CN101403867A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200810217183.7
申请日：2008-10-30
申请人： 清溢精密光电(深圳)有限公司
发明人： 王金木
摘要： 本发明提供了一种干版、菲林显影槽清洗剂及清洗方法，清洗剂成分包括重铬酸盐、硫酸和去离子水，且重铬酸盐∶硫酸∶去离子水＝1－20g∶1－20ml∶25－4160ml。显影槽清洗方法，包括如下步骤：(1)配置上述干版、菲林显影槽清洗剂；(2)放出显影槽内的显影液，使用去离子水洗尽显影液后，采用步骤(1)所述清洗剂洗尽显影槽壁上残留物。采用本发明提供的干版、菲林显影槽清洗剂，能解决显影槽内的黑色银离子和强氧化性残留物彻底清洗问题，从而防止在显影过程中，干版、菲林的表面产生黑点类或霉点类缺陷。
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