公开(公告)号：CN105154868B

公开(公告)日：2017-11-14

申请号：CN201510544088.8

申请日：2015-08-28

Applicant: 清华大学

Inventor： 杨权三 ,  郝鹏飞 ,  何枫

IPC: C23C24/08

Abstract: 一种基于抽气方法的纳米涂层沉积装置及方法，用于获得均匀的纳米涂层。所述装置包括稳定基座、控温平台、缓冲平台上和抽气系统，控温平台设置在稳定基座上，基底放置在控温平台。抽气系统包括抽气管、抽气缓冲腔、导气管、真空泵以及调速器。本发明结构简单，操作方便，其技术特点是通过从基底上方抽气的方法改变蒸发过程中液滴内部流动方向，使壁面液滴内部的纳米颗粒向边缘运动，从而可以消除咖啡环现象，实现颗粒的均匀沉积。

公开(公告)号：CN105154868A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201510544088.8

申请日：2015-08-28

Applicant: 清华大学

Inventor： 杨权三 ,  郝鹏飞 ,  何枫

IPC: C23C24/08

CPC classification number: C23C24/082

Abstract: 一种基于抽气方法的纳米涂层沉积装置及方法，用于获得均匀的纳米涂层。所述装置包括稳定基座、控温平台、缓冲平台上和抽气系统，控温平台设置在稳定基座上，基底放置在控温平台。抽气系统包括抽气管、抽气缓冲腔、导气管、真空泵以及调速器。本发明结构简单，操作方便，其技术特点是通过从基底上方抽气的方法改变蒸发过程中液滴内部流动方向，使壁面液滴内部的纳米颗粒向边缘运动，从而可以消除咖啡环现象，实现颗粒的均匀沉积。

公开(公告)号：CN204959041U

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201520664992.8

申请日：2015-08-28

Applicant: 清华大学

Inventor： 杨权三 ,  郝鹏飞 ,  何枫

IPC: C23C24/08

Abstract: 一种基于抽气方法的纳米涂层沉积装置，用于获得均匀的纳米涂层。所述装置包括稳定基座、控温平台、缓冲平台上和抽气系统，控温平台设置在稳定基座上，基底放置在控温平台。抽气系统包括抽气管、抽气缓冲腔、导气管、真空泵以及调速器。本实用新型结构简单，操作方便，无需加入添加剂或施加电场，只是利用简单的物理抽气方法，通过改变液滴内部流动方向，从而可以有效避免液滴蒸发时出现的“咖啡环”现象，使纳米颗粒在基底上沉积的更加均匀。