公开(公告)号：CN1390649A

公开(公告)日：2003-01-15

申请号：CN02123645.3

申请日：2002-07-05

Applicant: 清华大学

Inventor： 钟敏霖 ,  刘文今 ,  李凤生

IPC: B05B7/14 ,  C23C24/08 ,  B23K26/14

Abstract: 一种垂直面送粉激光熔覆喷嘴，属激光材料加工领域。本喷嘴由上体，中间体和下体三部分组成。本喷嘴采用双路对称送粉结构，确保垂直面送粉各方向的均匀性；采用双路保护气结构，确保激光熔覆熔池的良好惰性气体保护。本喷嘴适用于内侧和外侧垂直面送粉激光熔覆和激光和合金化等领域。

公开(公告)号：CN1194820C

公开(公告)日：2005-03-30

申请号：CN02123645.3

申请日：2002-07-05

Applicant: 清华大学

Inventor： 钟敏霖 ,  刘文今 ,  李凤生

IPC: B05B7/14 ,  B23K26/14

Abstract: 一种垂直面送粉激光熔覆喷嘴，属激光材料加工领域。本喷嘴由上体，中间体和下体三部分组成。本喷嘴采用双路对称送粉结构，确保垂直面送粉各方向的均匀性：采用双路保护气结构，确保激光熔覆熔池的良好惰性气体保护。本喷嘴适用于内侧和外侧垂直面送粉激光熔覆和激光和合金化等领域。