公开(公告)号：CN1141606C

公开(公告)日：2004-03-10

申请号：CN01136672.9

申请日：2001-10-26

Applicant: 清华大学

Inventor： 刘小明 ,  金弢 ,  厉群 ,  赵建辉 ,  彭江得

IPC: G02B6/124

Abstract: 本发明属于光电子技术领域，采用商售传输用单模光纤，对其外径进行刻蚀；具体包括：根据器件性能要求决定其外径大小，根据所采取的刻蚀方法和实际工艺条件事先标定刻蚀速率，然后根据要求的外径大小和刻蚀速率通过控制时间来局部地减小该光纤的外径，以实现等效地改变声光作用区的光纤折射率分布。本方法工艺简单，比较容易控制，容易实现较长的均匀声光作用区，而且光纤的芯区没有破坏，既可以实现器件不同的性能又可以保持单模光纤损耗低的优点；除此之外光纤外径可以随意设计，还可以采用不同的单模光纤，带来了很大的器件性能的设计余地。

公开(公告)号：CN1346990A

公开(公告)日：2002-05-01

申请号：CN01136672.9

申请日：2001-10-26

Applicant: 清华大学

Inventor： 刘小明 ,  金 ,  厉群 ,  赵建辉 ,  彭江得

IPC: G02B6/124

Abstract: 本发明属于光电子技术领域,采用商售传输用单模光纤,对其外径进行刻蚀;具体包括:根据器件性能要求决定其外径大小,根据所采取的刻蚀方法和实际工艺条件事先标定刻蚀速率,然后根据要求的外径大小和刻蚀速率通过控制时间来局部地减小该光纤的外径,以实现等效地改变声光作用区的光纤折射率分布。本方法工艺简单,比较容易控制,容易实现较长的均匀声光作用区,而且光纤的芯区没有破坏,既可以实现器件不同的性能又可以保持单模光纤损耗低的优点;除此之外光纤外径可以随意设计,还可以采用不同的单模光纤,带来了很大的器件性能的设计余地。