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公开(公告)号：CN119567016A
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202510026390.8
申请日：2025-01-08
Applicant: 深圳市盛瑞芯科技有限公司
Abstract: 本发明涉及石英晶片打磨抛光设备领域，公开了一种光学石英晶片生产用打磨装置及打磨方法，包括：底座，其上固定安装有支架，所述支架上滑动安装有上磨盘，所述上磨盘由第一驱动源驱动进行升降，所述底座内转动安装有内齿圈，本发明通过滑块推动光学石英晶片高于游星轮的部分，使得光学石英晶片抵接至固定孔内壁，此时滑块和光学石英晶片的摩擦力以及光学石英晶片和固定孔内壁的摩擦力，能够让转筒带动光学石英晶片和游星轮同步升降，如此巧妙的利用了固定孔高出游星轮的部分，实现游星轮和光学石英晶片的同时下料，且实现了光学石英晶片批量下料，缩减了对光学石英晶片取料的用时，同时无需人工在下磨盘和上磨盘之间进行上料，提高上料的安全性。
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公开(公告)号：CN119017227B
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202411180661.7
申请日：2024-08-27
Applicant: 深圳市盛瑞芯科技有限公司
Abstract: 本发明涉及抛光技术领域，其公开了一种超高频石英晶片抛光机，包括工作台与中间齿轮，工作台的上端开设有工作孔，工作台的内部设置有下抛光机构，工作台的上端设置有上抛光机构，中间齿轮的端面沿圆周方向阵列设置有若干个插孔，中间齿轮的厚度小于石英晶片的厚度，下抛光机构与上抛光机构均包括抛光构件，抛光构件包括与工作孔同轴的旋转柱以及用于驱使旋转柱发生旋转的电机，旋转柱朝向工作孔的一端同轴设置有固定盘，固定盘朝向工作孔的一端同轴设置有吸附盘，吸附盘朝向工作孔的一端同轴可拆卸式安装有抛光盘。
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公开(公告)号：CN119017227A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202411180661.7
申请日：2024-08-27
Applicant: 深圳市盛瑞芯科技有限公司
Abstract: 本发明涉及抛光技术领域，其公开了一种超高频石英晶片抛光机，包括工作台与中间齿轮，工作台的上端开设有工作孔，工作台的内部设置有下抛光机构，工作台的上端设置有上抛光机构，中间齿轮的端面沿圆周方向阵列设置有若干个插孔，中间齿轮的厚度小于石英晶片的厚度，下抛光机构与上抛光机构均包括抛光构件，抛光构件包括与工作孔同轴的旋转柱以及用于驱使旋转柱发生旋转的电机，旋转柱朝向工作孔的一端同轴设置有固定盘，固定盘朝向工作孔的一端同轴设置有吸附盘，吸附盘朝向工作孔的一端同轴可拆卸式安装有抛光盘。
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