一种曲面工件超精密抛光方法

    公开(公告)号:CN108177029B

    公开(公告)日:2020-01-14

    申请号:CN201810050346.0

    申请日:2018-01-18

    发明人: 蒋秋菊

    IPC分类号: B24B1/00 B24B35/00

    摘要: 本发明涉及一种曲面工件超精密抛光方法,涉及超精密加工领域。一种曲面工件超精密抛光方法,所述方法为:室温下,将工件先后置于抛光液I和II中,并控制抛光液以一定流速流经工件的待抛光面,持续处理至少5min,所述抛光液I和II按质量百分比,包括1~25%的磨料和75~99%的基液;所述抛光液I所用磨料为氧化铝晶须、SiC晶须、ZnO晶须、碳纤维;所述抛光液II所用磨料为平均粒径为0.5~50微米的超硬材料颗粒。利用上方法可以有效去除材料表面不同程度的凸起,获得好的抛光效果。