公开(公告)号：CN112870984B

公开(公告)日：2022-07-12

申请号：CN202110049591.1

申请日：2021-01-14

Applicant: 海南立昇净水科技实业有限公司

Inventor： 朱宝库 ,  方立峰 ,  肖玲 ,  王纳川 ,  赵斌 ,  王俊 ,  陈忱 ,  陈清 ,  陈良刚

IPC: B01D67/00 ,  B01D69/02

Abstract: 本发明公开了一种抗菌抗污染过滤膜的制备方法。所述的制备方法主要包括以下具体步骤：(1)将聚合物材料、荷正电添加剂和致孔剂溶于溶剂，得到均一稳定的制膜液；(2)将步骤(1)得到的制膜液经非溶剂诱导相分离，形成荷正电微孔底膜；(3)将步骤(2)得到的荷正电微孔底膜置于荷负电单体溶液中，并置于紫外灯下辐照，得到抗菌抗污染过滤膜。通过调控接枝条件，当过滤膜表面zeta电位在0.5～15.0mV时，过滤膜表现优异的抗菌抗污染性能。本方法具有操作简便、效果持久、表面性质可控的手段的改性手段。

公开(公告)号：CN112870984A

公开(公告)日：2021-06-01

申请号：CN202110049591.1

申请日：2021-01-14

Applicant: 海南立昇净水科技实业有限公司

Inventor： 朱宝库 ,  方立峰 ,  肖玲 ,  王纳川 ,  赵斌 ,  王俊 ,  陈忱 ,  陈清 ,  陈良刚

IPC: B01D67/00 ,  B01D69/02

Abstract: 本发明公开了一种抗菌抗污染过滤膜的制备方法。所述的制备方法主要包括以下具体步骤：(1)将聚合物材料、荷正电添加剂和致孔剂溶于溶剂，得到均一稳定的制膜液；(2)将步骤(1)得到的制膜液经非溶剂诱导相分离，形成荷正电微孔底膜；(3)将步骤(2)得到的荷正电微孔底膜置于荷负电单体溶液中，并置于紫外灯下辐照，得到抗菌抗污染过滤膜。通过调控接枝条件，当过滤膜表面zeta电位在0.5～15.0mV时，过滤膜表现优异的抗菌抗污染性能。本方法具有操作简便、效果持久、表面性质可控的手段的改性手段。