庆大霉素基聚物改性阴离子交换膜的制备方法

    公开(公告)号:CN114733356A

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202210330512.9

    申请日:2022-03-30

    Abstract: 本发明公开了一种庆大霉素基聚物改性阴离子交换膜的制备方法,其包括如下步骤:步骤1:将商业阴离子交换膜依次在氢氧化钠水溶液、氯化钠水溶液中浸泡,接着水洗制备得到原膜;步骤2:在室温下,将多巴胺溶解于pH在8‑9之间的Tris缓冲液中,经多巴胺自聚合得到PDA溶液,将原膜的单面与PDA溶液接触,充分接触后将膜取出用去离子水充分冲洗得到M‑PDA膜;步骤3:制备庆大霉素基聚物;步骤4:将由上述步骤2制备的M‑PDA膜浸入高碘酸钠水溶液中,接触15‑45min后将膜取出水洗后,转移到含有庆大霉素基聚合物水溶液的培养皿中,将培养皿静置12‑48h,取出水洗得到改性阴离子交换膜。本发明所制得的阴离子交换膜具有较好的抗化学污染物性能和抗菌性能。

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