-
公开(公告)号:CN109321256B
公开(公告)日:2020-09-11
申请号:CN201811070055.4
申请日:2018-09-13
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开一种液晶齐聚物及其制备亚5nm孔径均孔膜的方法。所述液晶齐聚物含有在紫外辐照下可降解的邻硝基苯甲酯官能团及衍生结构。其分子特征如下:R1,R2,R3为苯甲酯上位于3,4,5位的烯烃取代基团;R4,R5为邻硝基苯甲酯苯环上3,4‑位取代基。制膜方法如下:将液晶齐聚物、光引发剂、添加剂、溶剂混合形成均相溶液,旋涂或浸涂在基底上,退火诱导组装后,用紫外光辐照,将辐照后的薄膜在溶剂中浸泡、漂洗,即形成孔径小于5nm的均孔膜。
-
公开(公告)号:CN110052172A
公开(公告)日:2019-07-26
申请号:CN201910200717.3
申请日:2019-03-17
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B01D67/00 , B01D69/06 , B01D71/80 , C08F293/00
Abstract: 本发明公开一种交联型耐热耐溶剂均孔膜的制备方法。所述耐热是指均孔膜的孔结构在200℃温度下保持12小时以上不发生明显改变。所述的耐溶剂是指25~150℃温度下、均孔结构在有机溶剂,包括醇、有机酸、丙酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、氯仿、四氢呋喃、二氧六环、二氯甲烷、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜等溶剂中可保持10天以上而不发生改变。这种均孔膜的制备方法包括:以包括疏水链段和亲水链段为成膜材料,通过相转化制备得到均孔膜,然后经过后处理诱导分子链之间发生交联反应,最终形成耐热、耐溶剂均孔膜。
-
公开(公告)号:CN109400829A
公开(公告)日:2019-03-01
申请号:CN201811071682.X
申请日:2018-09-13
Applicant: 浙江工业大学
IPC: C08F293/00 , B01D67/00 , B01D71/80
Abstract: 本发明公开一种基于超分子作用力制备孔径亚10nm均孔膜的方法。所述方法利用超分子作用力克服低分子量嵌段聚合物难以微相分离的难题,促进嵌段聚合物的自组装,从而形成孔径小于10nm均孔膜的方法。所述方法的过程如下:将嵌段聚合物、添加剂、溶剂混合形成均相溶液,用刮刀将铸膜液在基底上铺展开,挥发一定时间后浸入凝固浴中相转化成膜。
-
公开(公告)号:CN110052172B
公开(公告)日:2021-08-24
申请号:CN201910200717.3
申请日:2019-03-17
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B01D67/00 , B01D69/06 , B01D71/80 , C08F293/00
Abstract: 本发明公开一种交联型耐热耐溶剂均孔膜的制备方法。所述耐热是指均孔膜的孔结构在200℃温度下保持12小时以上不发生明显改变。所述的耐溶剂是指25~150℃温度下、均孔结构在有机溶剂,包括醇、有机酸、丙酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、氯仿、四氢呋喃、二氧六环、二氯甲烷、N‑甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜等溶剂中可保持10天以上而不发生改变。这种均孔膜的制备方法包括:以包括疏水链段和亲水链段为成膜材料,通过相转化制备得到均孔膜,然后经过后处理诱导分子链之间发生交联反应,最终形成耐热、耐溶剂均孔膜。
-
公开(公告)号:CN110585937A
公开(公告)日:2019-12-20
申请号:CN201910745066.6
申请日:2019-08-13
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了一种大分子共组装诱导低χ值聚合物制备均孔膜的方法。所述方法选用含有酰胺键或酯键等氢键受体的嵌段聚合物作为成膜材料,利用外源性大分子提供的氢键作用增强嵌段聚合物之间的不相容性,促进嵌段聚合物自组装形成均孔膜。所述方法的过程如下:将嵌段聚合物、氢键给体聚合物、溶剂混合形成均相溶液,用刮刀将铸膜液在基底上铺展开,空气中停留一定时间后浸入凝固浴中相转化成膜。本发明解决了低χ值嵌段聚合在溶液中难以发生微相分离的问题,为均孔膜的制备和性能的提升提供了新的思路,也为不同层面实现均孔膜功能和性能的多样化设计提供了更多选择;通过本发明方法制备得到的膜内部结构更加疏松,强度更强,具有更高的通量。
-
公开(公告)号:CN109321256A
公开(公告)日:2019-02-12
申请号:CN201811070055.4
申请日:2018-09-13
Applicant: 浙江工业大学
CPC classification number: C09K19/3814 , C08J5/18 , C09K19/2014
Abstract: 本发明公开一种液晶齐聚物及其制备亚5nm孔径均孔膜的方法。所述液晶齐聚物含有在紫外辐照下可降解的邻硝基苯甲酯官能团及衍生结构。其分子特征如下:R1,R2,R3为苯甲酯上位于3,4,5位的烯烃取代基团;R4,R5为邻硝基苯甲酯苯环上3,4-位取代基。制膜方法如下:将液晶齐聚物、光引发剂、添加剂、溶剂混合形成均相溶液,旋涂或浸涂在基底上,退火诱导组装后,用紫外光辐照,将辐照后的薄膜在溶剂中浸泡、漂洗,即形成孔径小于5nm的均孔膜。
-
-
-
-
-