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公开(公告)号：CN103898463A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201410082293.2
申请日：2014-03-07
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种多元高熵合金薄膜及其制备方法。其组成成分为NiCrCoCuFe五元高熵合金薄膜或者NiCrCoCuFeAl4.5六元高熵合金薄膜；制备方法步骤包括：将单面抛光过的硅片基体依次通过丙酮、酒精和去离子水进行超声清洗；抛光面向上晾干；将硅片基体和高熵合金块体靶材分别放入直流磁控溅射设备真空室中的样品台和蒸发源位置上；将气压抽真空，冲入氩气；关闭样品台和蒸发源的阀门并进行预溅射；转动样品台，打开阀门进行溅射，取出得到多元高熵合金薄膜。本发明方法，溅射速率稳定，获得厚度均匀的高熵合金薄膜材料；冷却速率快，有利于抑制金属间化合物的形成，促进单一固溶体相的形成；操作工艺简单易行，扩展了高熵合金材料的应用范围。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103898463B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201410082293.2
申请日：2014-03-07
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种多元高熵合金薄膜及其制备方法。其组成成分为NiCrCoCuFe五元高熵合金薄膜或者NiCrCoCuFeAl4.5六元高熵合金薄膜；制备方法步骤包括：将单面抛光过的硅片基体依次通过丙酮、酒精和去离子水进行超声清洗；抛光面向上晾干；将硅片基体和高熵合金块体靶材分别放入直流磁控溅射设备真空室中的样品台和蒸发源位置上；将气压抽真空，冲入氩气；关闭样品台和蒸发源的阀门并进行预溅射；转动样品台，打开阀门进行溅射，取出得到多元高熵合金薄膜。本发明方法，溅射速率稳定，获得厚度均匀的高熵合金薄膜材料；冷却速率快，有利于抑制金属间化合物的形成，促进单一固溶体相的形成；操作工艺简单易行，扩展了高熵合金材料的应用范围。
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公开(公告)号：CN102634840B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201210131781.9
申请日：2012-05-02
Applicant: 浙江大学
IPC: C25F3/26
Abstract: 本发明公开了一种锆合金的电化学抛光液配方及其抛光方法，该配方由高氯酸、无水乙酸和丙酸组成，为无水配方。本配方不但可以在室温下有效地去除锆合金表面的细小划痕、砂纸打磨过程中的杂质等，从而得到良好的抛光表面而且还具有实用性强、效率高、溶液使用寿命长等优点。该配方可适用于不同组分、不同形状的锆合金。利用该配方的电化学抛光可以作为锆合金溅射或者电镀等操作的表面预处理，同时也可以用于锆合金器件的终处理，应用范围广泛。
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公开(公告)号：CN103668011A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310645557.6
申请日：2013-12-05
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种ZrCuAgAlBeNiCo系块体非晶合金及其制备方法。结构式为Zr42.78Cux1Agx2Al7.44Be7Nix3Cox4。将各个金属原料置于电弧熔炼炉内；将Zr锭子置于电弧熔炼炉内，抽真空后充Ar气；熔炼电弧熔炼炉中Zr锭子耗氧；再对各个金属原料进行熔炼，得到合金熔体后：或者打开底部真空阀门吸入铜模中完全冷却后制得；或者完全冷却后将合金锭子置于Al2O3坩埚内，抽真空；向浇铸炉内充Ar气；电磁感应加热合金锭子，熔化至液态；倾倒坩埚浇入铜模中，完全冷却后制得。本发明提高了原子堆集密度，从而抑制原子移动和晶化过程，提高其玻璃形成能力；块体非晶合金尺寸大，且热稳定性优良。
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公开(公告)号：CN103668011B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201310645557.6
申请日：2013-12-05
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种ZrCuAgAlBeNiCo系块体非晶合金及其制备方法。结构式为Zr42.78Cux1Agx2Al7.44Be7Nix3Cox4。将各个金属原料置于电弧熔炼炉内；将Zr锭子置于电弧熔炼炉内，抽真空后充Ar气；熔炼电弧熔炼炉中Zr锭子耗氧；再对各个金属原料进行熔炼，得到合金熔体后：或者打开底部真空阀门吸入铜模中完全冷却后制得；或者完全冷却后将合金锭子置于Al2O3坩埚内，抽真空；向浇铸炉内充Ar气；电磁感应加热合金锭子，熔化至液态；倾倒坩埚浇入铜模中，完全冷却后制得。本发明提高了原子堆集密度，从而抑制原子移动和晶化过程，提高其玻璃形成能力；块体非晶合金尺寸大，且热稳定性优良。
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公开(公告)号：CN102634840A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201210131781.9
申请日：2012-05-02
Applicant: 浙江大学
IPC: C25F3/26
Abstract: 本发明公开了一种锆合金的电化学抛光液配方及其抛光方法，该配方由高氯酸、无水乙酸和丙酸组成，为无水配方。本配方不但可以在室温下有效地去除锆合金表面的细小划痕、砂纸打磨过程中的杂质等，从而得到良好的抛光表面而且还具有实用性强、效率高、溶液使用寿命长等优点。该配方可适用于不同组分、不同形状的锆合金。利用该配方的电化学抛光可以作为锆合金溅射或者电镀等操作的表面预处理，同时也可以用于锆合金器件的终处理，应用范围广泛。
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