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公开(公告)号:CN113336279B
公开(公告)日:2023-01-10
申请号:CN202110663968.2
申请日:2021-06-16
Applicant: 济南大学
Abstract: 本发明公开了一种中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体材料及其制备与应用,其中所述制备包括以ZIF‑67的Ni‑Co双金属氢氧化物的前驱体为原料,经硫化制得中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体的过程,其制备成本低、可简单便捷的制备出中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体。所得中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体材料具有良好的导电性及比电容保持率,特别适于用作自支撑电极材料。
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公开(公告)号:CN113336279A
公开(公告)日:2021-09-03
申请号:CN202110663968.2
申请日:2021-06-16
Applicant: 济南大学
Abstract: 本发明公开了一种中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体材料及其制备与应用,其中所述制备包括以ZIF‑67的Ni‑Co双金属氢氧化物的前驱体为原料,经硫化制得中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体的过程,其制备成本低、可简单便捷的制备出中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体。所得中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体材料具有良好的导电性及比电容保持率,特别适于用作自支撑电极材料。
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