一种MoO2纳米片的制备方法及MoO2纳米片

    公开(公告)号:CN104477995A

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201410695809.0

    申请日:2014-11-26

    Applicant: 济南大学

    Abstract: 本发明提供一种MoO2纳米片的制备方法及MoO2纳米片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)取1g-10g还原氧化石墨烯溶于20ml无水乙醇中,在磁力搅拌机中充分搅拌1小时,然后旋涂在1cmX1cm单晶硅上;(2)取0.5g-3gMoO3粉末放入钢玉舟中;(3)旋涂后的单晶硅面朝MoO3粉末放置但不直接接触MoO3粉末;(4)将单晶硅和钢玉舟放入高温炉恒温区中,并通入氮气N2;(5)将高温炉加热到850摄氏度并保持2小时,自然降温至室温。本发明的方法简单易行,成功率极高,能够达到90%以上,产品分布均匀、型为纳米片状,产品精度极高,适宜推广应用。

    一种MoO2纳米片的制备方法及MoO2纳米片

    公开(公告)号:CN104477995B

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201410695809.0

    申请日:2014-11-26

    Applicant: 济南大学

    Abstract: 本发明提供一种MoO2纳米片的制备方法及MoO2纳米片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)取1g‑10g还原氧化石墨烯溶于20ml无水乙醇中,在磁力搅拌机中充分搅拌1小时,然后旋涂在1cmX1cm单晶硅上;(2)取0.5g‑3gMoO3粉末放入钢玉舟中;(3)旋涂后的单晶硅面朝MoO3粉末放置但不直接接触MoO3粉末;(4)将单晶硅和钢玉舟放入高温炉恒温区中,并通入氮气N2;(5)将高温炉加热到850摄氏度并保持2小时,自然降温至室温。本发明的方法简单易行,成功率极高,能够达到90%以上,产品分布均匀、型为纳米片状,产品精度极高,适宜推广应用。

Patent Agency Ranking