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公开(公告)号：CN104684860B
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201380050687.3
申请日：2013-09-24
申请人： 法国圣戈班玻璃厂
CPC分类号： H01L51/5268 , C03C8/04 , C03C17/04 , C03C17/3417 , C03C19/00 , C03C2217/948 , C03C2218/17 , C03C2218/31 , H01L51/0096 , H01L51/5206 , Y10T428/24372
摘要： 本发明被描述为制造透明扩散OLED基板的方法，其包括以下连续步骤：（a）用磨料浆研磨扁平半透明玻璃基板的一面或两面，以获得具有至少一个粗糙化表面的扁平玻璃基板，所述至少一个粗糙化表面具有算术平均偏差Ra为0.1μm至2.0μm、优选0.15μm至1.5μm、更优选0.2至小于1.0μm、最优选0.25μm至0.8μm的粗糙轮廓，（b）用具有至少1.7、优选1.7至2.2的折射率的高折射率玻璃釉料涂覆粗糙化表面或粗糙化表面之一，所述高折射率玻璃釉料的量足以在所述玻璃釉料熔融后完全覆盖所述粗糙化表面的粗糙轮廓；（c）将经涂覆的基板加热至高于所述高折射率玻璃釉料的熔融温度且低于下层基板的软化温度的温度，从而在所述粗糙化表面之一上形成高折射率搪瓷。
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公开(公告)号：CN105026331A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201480011860.3
申请日：2014-02-27
申请人： 法国圣戈班玻璃厂
CPC分类号： C03C17/001 , C03C17/3618 , C03C17/3626 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C2218/32
摘要： 本发明涉及用于热处理在包含第一面(F1)和与所述第一面(F1)相反的第二面(F2)的基材(2)的第一面(F1)的至少一部分上沉积的涂层(1)的方法，其中借助于聚焦在所述涂层(1)上呈沿着第一方向(D1)延伸的激光线(4)的形式的激光辐射(3)来处理所述涂层(1)，所述热处理使得，在与所述第一方向(D1)横交的第二方向(D2)上，在所述基材(2)和所述激光线(4)之间产生相对位移运动，所述方法特征在于，借助于至少一个设置在与所述激光线(4)关于所述基材(2)而言为相反的一侧的附加加热设备(6)，在附加加热区(5)中局部地加热所述第二面(F2)至至少30℃的温度，该附加加热区面对所述激光线(4)在沿着所述第二方向(D2)的至少10cm的长度上延伸。
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公开(公告)号：CN104684860A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201380050687.3
申请日：2013-09-24
申请人： 法国圣戈班玻璃厂
CPC分类号： H01L51/5268 , C03C8/04 , C03C17/04 , C03C17/3417 , C03C19/00 , C03C2217/948 , C03C2218/17 , C03C2218/31 , H01L51/0096 , H01L51/5206 , Y10T428/24372
摘要： 本发明被描述为制造透明扩散OLED基板的方法，其包括以下连续步骤：（a）用磨料浆研磨扁平半透明玻璃基板的一面或两面，以获得具有至少一个粗糙化表面的扁平玻璃基板，所述至少一个粗糙化表面具有算术平均偏差Ra为0.1μm至2.0μm、优选0.15μm至1.5μm、更优选0.2至小于1.0μm、最优选0.25μm至0.8μm的粗糙轮廓，（b）用具有至少1.7、优选1.7至2.2的折射率的高折射率玻璃釉料涂覆粗糙化表面或粗糙化表面之一，所述高折射率玻璃釉料的量足以在所述玻璃釉料熔融后完全覆盖所述粗糙化表面的粗糙轮廓；（c）将经涂覆的基板加热至高于所述高折射率玻璃釉料的熔融温度且低于下层基板的软化温度的温度，从而在所述粗糙化表面之一上形成高折射率搪瓷。
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