公开(公告)号：CN113213769B

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202110414307.6

申请日：2021-04-16

申请人： 河北光兴半导体技术有限公司 ,  东旭光电科技股份有限公司 ,  东旭科技集团有限公司

发明人： 李青 ,  李赫然 ,  段亚伟 ,  胡恒广 ,  王丽红 ,  周波 ,  李瑞佼 ,  王世岚 ,  郝艺 ,  王肖义

IPC分类号： C03C15/00

摘要： 本公开涉及一种刻蚀减薄系统，该刻蚀系统包括刻蚀装置和管路输送组件，所述刻蚀装置包括具有容纳腔的壳体，所述容纳腔内设置有用于直立固定玻璃的固定结构，所述壳体设置有用于持续向所述容纳腔供送刻蚀液的刻蚀液进口，所述壳体的顶部设置有刻蚀液出口。将需要减薄的玻璃放入刻蚀装置的容纳腔内，并通过固定结构将玻璃以直立的状态固定，充满容纳腔的刻蚀液能够与玻璃表面完全均匀地接触，解决了玻璃表面局部刻蚀不一致的问题。侵蚀反应中产生的颗粒物或沉淀物不容易沾附在处于直立状态的玻璃表面上，而且从玻璃表面不断流过的刻蚀液能够冲刷并带走侵蚀反应产生的沉积物及颗粒物。

公开(公告)号：CN112557435A

公开(公告)日：2021-03-26

申请号：CN202011444108.1

申请日：2020-12-08

申请人： 河北光兴半导体技术有限公司 ,  东旭光电科技股份有限公司 ,  芜湖东旭光电装备技术有限公司 ,  东旭科技集团有限公司

发明人： 李青 ,  李赫然 ,  郝艺 ,  胡恒广 ,  闫冬成 ,  周波 ,  王丽红 ,  王世岚 ,  李瑞佼 ,  段亚伟

IPC分类号： G01N25/16 ,  G01B11/00 ,  G01B11/14

摘要： 本公开涉及热收缩检测技术领域，具体地，涉及一种玻璃热收缩率测定系统、方法、存储介质和电子设备，所述系统包括：待测玻璃，衍射装置，以及与所述衍射装置连接的处理器，所述待测玻璃上预先刻蚀有衍射光栅，所述待测玻璃包括进行热处理前的第一待测玻璃和对所述第一待测玻璃进行热处理后的第二待测玻璃；所述衍射装置，用于对所述第一待测玻璃和所述第二待测玻璃上的衍射光栅进行衍射，并获取所述第一待测玻璃对应的第一光栅衍射图像和所述第二待测玻璃对应的第二光栅衍射图像；所述处理器，用于根据所述第一光栅衍射图像和所述第二光栅衍射图像确定所述待测玻璃的热收缩率。

公开(公告)号：CN113654866B

公开(公告)日：2024-03-01

申请号：CN202111109074.5

申请日：2021-09-22

申请人： 河北光兴半导体技术有限公司 ,  东旭科技集团有限公司 ,  东旭光电科技股份有限公司

发明人： 王肖义 ,  李瑞佼 ,  段亚伟

IPC分类号： G01N1/28 ,  G01N1/32 ,  G01N23/225 ,  G01N23/227

摘要： 本公开涉及一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测试方法，该方法包括对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的切割、对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品切割面的研磨抛光和腐蚀以及对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的缺陷测试；该方法通过倾斜切割、用腐蚀剂腐蚀切割面，使得接近切割面的缺陷部位能够暴露，缺陷更容易被发现，进而更容易被测试。另外，该方法利用能谱仪快

公开(公告)号：CN113654866A

公开(公告)日：2021-11-16

申请号：CN202111109074.5

申请日：2021-09-22

申请人： 河北光兴半导体技术有限公司 ,  东旭科技集团有限公司 ,  东旭光电科技股份有限公司

发明人： 王肖义 ,  李瑞佼 ,  段亚伟

IPC分类号： G01N1/28 ,  G01N1/32 ,  G01N23/225 ,  G01N23/227

摘要： 本公开涉及一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测试方法，该方法包括对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的切割、对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品切割面的研磨抛光和腐蚀以及对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的缺陷测试；该方法通过倾斜切割、用腐蚀剂腐蚀切割面，使得接近切割面的缺陷部位能够暴露，缺陷更容易被发现，进而更容易被测试。另外，该方法利用能谱仪快速分析，并结合电子探针精确的定性分析，可以高效、准确、快捷的确定缺陷成分。

公开(公告)号：CN113213769A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN202110414307.6

申请日：2021-04-16

申请人： 河北光兴半导体技术有限公司 ,  东旭光电科技股份有限公司 ,  东旭科技集团有限公司

发明人： 李青 ,  李赫然 ,  段亚伟 ,  胡恒广 ,  王丽红 ,  周波 ,  李瑞佼 ,  王世岚 ,  郝艺 ,  王肖义

IPC分类号： C03C15/00

摘要： 本公开涉及一种刻蚀减薄系统，该刻蚀系统包括刻蚀装置和管路输送组件，所述刻蚀装置包括具有容纳腔的壳体，所述容纳腔内设置有用于直立固定玻璃的固定结构，所述壳体设置有用于持续向所述容纳腔供送刻蚀液的刻蚀液进口，所述壳体的顶部设置有刻蚀液出口。将需要减薄的玻璃放入刻蚀装置的容纳腔内，并通过固定结构将玻璃以直立的状态固定，充满容纳腔的刻蚀液能够与玻璃表面完全均匀地接触，解决了玻璃表面局部刻蚀不一致的问题。侵蚀反应中产生的颗粒物或沉淀物不容易沾附在处于直立状态的玻璃表面上，而且从玻璃表面不断流过的刻蚀液能够冲刷并带走侵蚀反应产生的沉积物及颗粒物。

公开(公告)号：CN113830558A

公开(公告)日：2021-12-24

申请号：CN202111098480.6

申请日：2021-09-18

申请人： 甘肃光轩高端装备产业有限公司 ,  东旭科技集团有限公司 ,  东旭光电科技股份有限公司

发明人： 李青 ,  李赫然 ,  崔海舰 ,  段亚伟 ,  郭强彬 ,  袁月稳 ,  李志军 ,  史伟华

IPC分类号： B65G49/06 ,  B65G13/07 ,  C03B33/03 ,  C03B35/16

摘要： 本发明涉及玻璃制造技术领域，公开了玻璃基板的传输装置，所述玻璃基板的传输装置包括基架、装配于所述基架且能够提供用于传送玻璃基板的传输动力的传输单元以及具有装配部的移动单元，所述装配部构造为能够悬空固定所述玻璃基板，所述移动单元配合于所述传输单元并在所述传输单元所提供的传输动力的作用下能够相对于所述基架移动，以传送所述玻璃基板。该玻璃基板的传输装置能够悬空传送玻璃基板，从而大大减少了玻璃基板被污染或是被划伤等极易造成玻璃基板缺陷的风险，由此减少了后续的清洗工序，降低了生产成本。

公开(公告)号：CN113893594A

公开(公告)日：2022-01-07

申请号：CN202111019913.4

申请日：2021-09-01

申请人： 甘肃光轩高端装备产业有限公司 ,  东旭科技集团有限公司

发明人： 段亚伟 ,  崔海舰 ,  李志军 ,  安利营 ,  史伟华

IPC分类号： B01D29/35 ,  B01D29/60 ,  C03C15/00

摘要： 本发明涉及玻璃生产设备领域，公开了一种刻蚀液过滤系统、玻璃生产线及玻璃刻蚀方法，所述刻蚀液过滤系统包括壳体(17)，该壳体内形成有中空腔(18)并在顶部和底部分别设有连通该中空腔(18)的刻蚀液进口(1)和刻蚀液出口(16)；过滤器(6)，该过滤器安装于所述中空腔(18)内并能够过滤由刻蚀液进口(1)通入的刻蚀液；以及真空泵(5)，该真空泵的抽气口连通于所述中空腔(18)的位于所述过滤器(6)下侧的腔体部分，以能够通过使得该腔体部分内形成负压而促使所述刻蚀液通过所述过滤器(6)。本发明的刻蚀液过滤系统能够大大加快刻蚀液过滤速度，能够有效提高刻蚀液的过滤效率，便于提高玻璃器件的生产效率、降低生产成本。

公开(公告)号：CN216224340U

公开(公告)日：2022-04-08

申请号：CN202122100992.3

申请日：2021-08-31

申请人： 甘肃光轩高端装备产业有限公司 ,  东旭科技集团有限公司

发明人： 段亚伟 ,  史伟华 ,  崔海舰 ,  李志军 ,  安利营

IPC分类号： B01J19/18 ,  B01J4/00 ,  B01F33/82 ,  B01F33/45 ,  B01F33/452 ,  B01F27/90 ,  C22B11/00 ,  B01F101/45

摘要： 本实用新型公开了一种溶解提炼贵金属用反应釜，包括配置装置和反应装置，其中，所述配置装置上设置有配置剂入口和溶解液出口；所述反应装置上设置有溶解液入口和冷却回流装置，所述冷却回流装置设置在所述反应装置的上端，且与所述反应装置的反应腔连通；所述溶解液出口和所述溶解液入口通过溶解液管道连通，并且，所述溶解液出口的高度高于所述溶解液入口的高度。本实用新型提供的溶解提炼贵金属用反应釜，在线现配现用，发挥其最大的化学反应效能，可高效在线配制反应溶解液，满足产线需求，且可为贵金属反应提供稳定的反应温度及搅拌效果从而提高反应效率。