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公开(公告)号：CN1819038A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：CN200610004533.2
申请日：2006-01-27
申请人： 汤姆森特许公司
IPC分类号： G11B7/00
CPC分类号： G11B7/0065 , G11B7/00781 , G11B7/083 , G11B7/0938 , G11B7/24044
摘要： 本发明涉及一种具有伺服标记(7)的全息盘介质(1)，更具体地，涉及一种具有用于反射伺服光束(9)及物体和参考光束(8)的公共反射层(3)的全息盘介质(1)。根据本发明，具有用于记录全息图(6)的记录层(2)和用于反射伺服光束(9)及物体和参考光束(8)的公共反射层(3)的全息盘介质(1)包括：位于反射层(3)内、至少部分全息图(6)的下方的伺服标记(7)，其中，所述伺服标记(7)被设计成对所述物体和参考光束(8)的影响被最小化。
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公开(公告)号：CN1805020B
公开(公告)日：2010-04-14
申请号：CN200510127201.9
申请日：2005-11-18
申请人： 汤姆森特许公司
IPC分类号： G11B7/00 , G11B7/0045 , G11B7/135
CPC分类号： G11B7/1369 , G11B7/128 , G11B7/1362 , G11B7/24088
摘要： 本发明公开了一种用于记录角度复用凹坑的设备。该设备使用用于产生非对称强度分布的记录光束的装置(1)在光记录介质上记录角度复用凹坑。根据本发明，用于产生非对称强度分布的光束的装置(1)具有至少一个光影响部件(3)，所述光影响部件(3)用于在所述光束的第一半中相对于所述光束的第二半引入180°的相移，其中，所述光束的第一半和所述光束的第二半之间的边界可围绕所述光束的光轴旋转。
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公开(公告)号：CN1805020A
公开(公告)日：2006-07-19
申请号：CN200510127201.9
申请日：2005-11-18
申请人： 汤姆森特许公司
IPC分类号： G11B7/00 , G11B7/0045 , G11B7/135
CPC分类号： G11B7/1369 , G11B7/128 , G11B7/1362 , G11B7/24088
摘要： 本发明公开了一种用于记录角度复用凹坑的设备。该设备使用用于产生非对称强度分布的记录光束的装置(1)在光记录介质上记录角度复用凹坑。根据本发明，用于产生非对称强度分布的光束的装置(1)具有至少一个光影响部件(3)，所述光影响部件(3)用于在所述光束的第一半中相对于所述光束的第二半引入180°的相移，其中，所述光束的第一半和所述光束的第二半之间的边界可围绕所述光束的光轴旋转。
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公开(公告)号：CN1819038B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200610004533.2
申请日：2006-01-27
申请人： 汤姆森特许公司
IPC分类号： G11B7/00
CPC分类号： G11B7/0065 , G11B7/00781 , G11B7/083 , G11B7/0938 , G11B7/24044
摘要： 本发明涉及一种具有伺服标记(7)的全息盘介质(1)，更具体地，涉及一种具有用于反射伺服光束(9)及物体和参考光束(8)的公共反射层(3)的全息盘介质(1)。根据本发明，具有用于记录全息图(6)的记录层(2)和用于反射伺服光束(9)及物体和参考光束(8)的公共反射层(3)的全息盘介质(1)包括：位于反射层(3)内、至少部分全息图(6)的下方的伺服标记(7)，其中，所述伺服标记(7)被设计成对所述物体和参考光束(8)的影响被最小化。
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