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公开(公告)号：CN119472184A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411570497.0
申请日：2024-11-06
Applicant: 江苏海洋大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及投影光学技术领域，尤其是一种极紫外光刻投影曝光光学系统及方法，本发明提供的紫外光刻投影曝光光学系统包括光场均匀性调整模块，光场均匀性调整模块分别与光束生成模块以及光束整形模块信号连接；光场均匀性调整模块用于获取光束整形模块输出的极紫外光束光强分布数据；还用于根据光强分布数据，调整光束生成模块的输出功率，使得功率调整后光束整形模块输出的极紫外光束光强分布数据中最低光强不低于目标光强；还用于根据功率调整后光束整形模块输出的极紫外光束光强分布数据，调整极紫外光束整形模块中渐变衰减片的透光率，使得透过率调整后光束整形模块输出的极紫外光束光强分布数据中任两位置的光强差不超过差值限定范围。
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