含硅丙烯酸酯-聚酯树脂及其面漆和应用

    公开(公告)号:CN102850536A

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN201210347799.2

    申请日:2012-09-18

    IPC分类号: C08G63/695 C09D175/06

    摘要: 一种含硅丙烯酸酯-聚酯树脂,将有机硅单体,尤其是乙烯基硅氧烷单体、与多种(甲基)丙烯酸(酯)类单体组成的功能单体,以及多元羧酸和多元醇经自由基聚合和缩聚两步法制得。通过增加聚合单体的数量和种类,使所制得的树脂有效地结合有机硅树脂、丙烯酸酯树脂和聚酯树脂三者的优点,从而赋予以该树脂为基料树脂制成的漆料不仅具有优异的防沾污和自清洁功能,还具有优良的耐蚀性、耐高低温稳定性、耐候性、耐磨性、抗冲击、耐化学介质、耐蚀性和耐溶剂性,以及足够的硬度、柔韧性、光亮度和丰满度等。

    含硅丙烯酸酯-聚酯树脂及其面漆和应用

    公开(公告)号:CN102850536B

    公开(公告)日:2014-04-02

    申请号:CN201210347799.2

    申请日:2012-09-18

    IPC分类号: C08G63/695 C09D175/06

    摘要: 一种含硅丙烯酸酯-聚酯树脂,将有机硅单体,尤其是乙烯基硅氧烷单体、与多种(甲基)丙烯酸(酯)类单体组成的功能单体,以及多元羧酸和多元醇经自由基聚合和缩聚两步法制得。通过增加聚合单体的数量和种类,使所制得的树脂有效地结合有机硅树脂、丙烯酸酯树脂和聚酯树脂三者的优点,从而赋予以该树脂为基料树脂制成的漆料不仅具有优异的防沾污和自清洁功能,还具有优良的耐蚀性、耐高低温稳定性、耐候性、耐磨性、抗冲击、耐化学介质、耐蚀性和耐溶剂性,以及足够的硬度、柔韧性、光亮度和丰满度等。

    一种镀镍层应力调节剂及其应用

    公开(公告)号:CN108754549B

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN201810602920.9

    申请日:2018-06-12

    IPC分类号: C25D3/12 C25D5/12

    摘要: 本发明公开了一种镀镍层应力调节剂及其应用,属于金属电沉积领域。镀镍层应力调节剂包括添加剂和调节剂,添加剂为葡萄糖酸、植酸和柠檬酸中的一种或两种以上混合,调节剂为氨水。其应用于电镀法镀镍工艺中,与镍盐溶液组成镀镍溶液。镍盐溶液为硫酸镍溶液、氯化镍溶液和氨基磺酸镍溶液中的一种以上,浓度为:硫酸镍150‑300g/L,氯化镍不大于60g/L,氨基磺酸镍不大于450g/L;调节剂的浓度为:葡萄糖酸10‑100g/L,植酸1‑10g/L,柠檬酸不大于30g/L,氨水调节镀镍溶液pH值为3‑6。施镀时,阳极为Ni,阴极为紫铜,镀镍溶液温度30‑60℃,电流密度1‑3A/dm2,电镀时间10‑60min。得到镀镍层的平均晶粒10‑50nm,宏观内应力20‑250Mpa。本发明提高了叠层镀层的界面结合,可应用于空间站电传输装置表面的Cu‑Ni‑Au的叠层镀层中。

    一种引入锂离子增强CsPbI3钙钛矿稳定性的方法

    公开(公告)号:CN110648900A

    公开(公告)日:2020-01-03

    申请号:CN201910868591.7

    申请日:2019-09-16

    摘要: 本发明提供一种引入锂离子增强CsPbI3钙钛矿稳定性的方法,包括以下步骤:将CsI、HPbI3和LiI混合,溶于DMF溶剂中,得到溶液A;将步骤S1得到的溶液A旋涂在导电基材上,旋涂后经过退火,即得到CsPbI3钙钛矿薄膜。通过本发明的技术方案可使获得的CsPbI3钙钛矿材料具有较优的稳定性效果和光电性能,所获得的CsPbI3钙钛矿薄膜应用于基于碳电极的钙钛矿太阳能电池的制备,具有较高光电转换效率和稳定性。

    一种防高温液态沥青沾污涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN107739572A

    公开(公告)日:2018-02-27

    申请号:CN201711210974.2

    申请日:2017-11-28

    摘要: 本发明公开了一种防高温液态沥青沾污涂层及其制备方法,属于防沾污涂层技术领域。所述制备方法首先将溶剂、聚苯硫醚、结构调配剂、添加剂按比例混合调制形成浆料;将浆料与疏水改性剂混合制成涂料;将涂料涂覆在预处理后的基材表面,加热保温一段时间后冷却至室温,即得到本发明的防高温液态沥青沾污涂层。本发明提供的防高温液态沥青沾污涂层,满足高温液态沥青环境的使用要求;涂层与基体材料形成良好的层间结合力,涂层表面形成疏水表面,提高了复合涂层的防沾污性能,高温液态沥青沾污面积小于10%。

    镁合金表面无电压化学制膜和低电压下电化学制膜的方法

    公开(公告)号:CN101435081A

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN200810226985.4

    申请日:2008-11-28

    IPC分类号: C23F17/00 C23C22/68 C25D11/30

    摘要: 本发明公开了一种镁合金表面无电压化学制膜和低电压下电化学制膜的方法,它在镁合金电化学表面处理领域中,利用5V~20V的低电压,在含硅酸盐0.1~2mol/L,硼酸盐0.1~1.5mol/L的碱性处理液中,对镁合金工件进行阳极氧化处理,在镁合金材料表面形成了一层耐腐蚀性能较好的阳极氧化膜层。这种镁合金表面处理方法,在保证镁合金表面处理膜层质量的前提下,降低了表面处理电压,有效地避免了高电压阳极氧化过程中火花放电导致的高温对镁合金基体的机械损伤;提高了氧化过程中电流的利用效率,从而节能降耗。