公开(公告)号：CN105218765B

公开(公告)日：2018-06-01

申请号：CN201510684619.3

申请日：2015-10-21

Applicant: 江苏大学

Inventor： 刘燕 ,  钟国星 ,  韦月梅 ,  刘方方

IPC: C08F292/00 ,  C08F220/34 ,  C08F222/14 ,  C08J9/26 ,  C08J3/28 ,  B01J20/26 ,  B01J20/281 ,  B01J20/30 ,  C07C39/16 ,  C07C37/82

Abstract: 本发明提供了一种光响应智能印迹介孔材料的制备方法及用途，所述方法包括制备4‑[4‑(甲基丙烯酰氧基)苯基偶氮]苯甲酸的步骤和制备乙烯基功能化的介孔材料SBA‑15‑MPS的步骤，还包括制备光响应印迹介孔材料的步骤。将模板分子与MPABA于体积比为4:1的甲醇/DMSO混合溶液中避光处理，取SBA‑15‑MPS分散于甲醇中混匀；将上述两种液体混合后再加入交联剂，置于水浴中，升温至一定温度后加入引发剂混匀，最后氮气除氧后密封，黑暗条件下磁力搅拌反应；反应结束后，收集聚合物，洗涤，真空干燥，再进行交替光照射处理，即可得到产物。本材料能够在复杂环境中选择性富集分离目标物，且基于介孔材料制备，赋予其较其他光响应印迹材料更大的吸附容量。

公开(公告)号：CN105218765A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201510684619.3

申请日：2015-10-21

Applicant: 江苏大学

Inventor： 刘燕 ,  钟国星 ,  韦月梅 ,  刘方方

IPC: C08F292/00 ,  C08F220/34 ,  C08F222/14 ,  C08J9/26 ,  C08J3/28 ,  B01J20/26 ,  B01J20/281 ,  B01J20/30 ,  C07C39/16 ,  C07C37/82

Abstract: 本发明提供了一种光响应智能印迹介孔材料的制备方法及用途，所述方法包括制备4-[4-(甲基丙烯酰氧基)苯基偶氮]苯甲酸的步骤和制备乙烯基功能化的介孔材料SBA-15-MPS的步骤，还包括制备光响应印迹介孔材料的步骤。将模板分子与MPABA于体积比为4:1的甲醇/DMSO混合溶液中避光处理，取SBA-15-MPS分散于甲醇中混匀；将上述两种液体混合后再加入交联剂，置于水浴中，升温至一定温度后加入引发剂混匀，最后氮气除氧后密封，黑暗条件下磁力搅拌反应；反应结束后，收集聚合物，洗涤，真空干燥，再进行交替光照射处理，即可得到产物。本材料能够在复杂环境中选择性富集分离目标物，且基于介孔材料制备，赋予其较其他光响应印迹材料更大的吸附容量。