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公开(公告)号：CN116284936A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310290076.1
申请日：2023-03-23
Applicant: 江苏东材新材料有限责任公司
IPC: C08J7/044 , C09D181/00 , C08L67/00 , B29C48/00 , B29L7/00
Abstract: 本发明涉及一种低环境依赖型抗静电偏光片保护膜的制备方法，偏光片保护膜由抗静电涂层和偏光片保护膜基膜共同制备而成，首先，通过在线涂布的方式将特制的抗静电涂布液附于偏光片保护膜基膜上形成抗静电涂层，偏光片保护膜基膜再通过多层共挤、双向拉伸的方式制备而成所需的偏光片保护膜。本发明的优点在于：通过本发明的制备方法所制得的低环境依赖型抗静电偏光片保护膜具有优异的光学性能与电学性能，透光率大于90%、雾度小于4%，表面电阻稳定在108‑1010Ω/£；保护膜表面无涂布纹、漏涂点、擦伤、毛刺、白点、压点等瑕疵弊病。
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公开(公告)号：CN115636982A
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN202211402953.1
申请日：2022-11-10
Applicant: 江苏东材新材料有限责任公司
IPC: C08K5/098 , C08K5/3432 , C08L33/02 , C08L35/00 , C08L91/06 , C08L23/08 , C08L67/00 , C08J5/18 , B29D7/01
Abstract: 本发明公开了低取向高耐热的光学基膜用成核剂及光学基膜的制备方法，它涉及聚酯薄膜制备技术领域。低取向高耐热的光学基膜用成核剂的制备方法包括以下步骤：选取促进PET结晶的有机分子；采用有机分子与PET共挤出造粒，制得聚酯成核剂；含有低取向高耐热的光学基膜用成核剂的光学基膜的制备方法，包括以下步骤：将聚酯切片、聚酯成核剂混合干燥；将聚酯切片和聚酯成核剂的混合物熔融挤出；熔体经模唇流至铸片辊形成铸片；纵向拉伸；横向拉伸，制得光学基膜。本发明的优点在于：加入有效的聚酯成核剂，在确保全横幅低取向的条件下，提高光学基膜耐高温力学性能；制备工艺简便。
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公开(公告)号：CN117659467A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202311430080.X
申请日：2023-10-31
Applicant: 江苏东材新材料有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种涂布法制备的耐湿热低析出聚酯薄膜及其制备方法，它涉及聚酯薄膜加工技术领域。聚酯薄膜表面通过涂布技术涂布防析出涂层，防析出涂层由防析出涂液经过双面涂布、高温干燥、固化定型而成；防析出涂液包括水溶性苯乙烯‑马来酸酐共聚物、去离子水、交联剂、硅溶胶、润湿剂及异丙醇。本发明的优点在于：在聚酯薄膜表面涂布防析出涂层，此涂层主树脂为苯乙烯‑马来酸酐共聚物，具有良好的低聚物亲和性，高温或高温高湿状态下低聚物迁移至低析出涂层内，防析出涂层能够有效保持低聚物处于分散状态，迁移出的低聚物均匀分散在涂层内，防止低聚物聚集结晶白化发生，具有更优异的防析出性能，且材料成本更低。
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公开(公告)号：CN117644710A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202311636015.2
申请日：2023-12-01
Applicant: 江苏东材新材料有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种TBEF薄型增亮聚酯膜及其制备方法，它涉及背光模组技术领域。薄型增亮聚酯膜包括聚酯基膜和增亮涂层，增亮涂层通过在线涂布增亮涂布液的方式形成于聚酯基膜表面；聚酯基膜包括FWE聚酯切片基料、高清母料、快速结晶料；增亮涂布液包括水性聚氨酯树脂和乳液型聚氨酯树脂、附着力添加剂、涂布交联剂、表面活性剂、开口剂、消泡剂、PH调节剂、溶剂。本发明的优点在于：本发明制得的TBEF薄型增亮聚酯膜具有良好的涂层附着力，形成全幅厚度均匀、性能统一的增亮涂层，聚酯基膜收卷不会出现粘连；增亮涂布液中的聚氨酯树脂具有耐UV特性，聚酯膜具有优异的光学性能和双向低收缩特性、高透光的特性，本征雾度降低，清晰度提高。
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