公开(公告)号：CN104017501B

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201410258142.8

申请日：2014-06-12

Applicant: 江南大学

Inventor： 李庆忠 ,  莫益栋

IPC: C09G1/02

Abstract: 一种适用于TFT-LCD玻璃基板的超声雾化型抛光液，所用原料包括氧化铈、硅溶胶、去离子水、pH调节剂、表面活性剂；本适用于TFT-LCD玻璃基板的超声雾化型抛光液由下述生产步骤得到：首先将1~10份的氧化铈溶于25~30份的去离子水，搅拌加入16~50份的硅溶胶至溶液无絮状物，然后加入pH调节剂和去离子水来调节溶液pH为10~12，最后加入0.5~2份表面活性剂，充分溶解后超声分散10~30分钟，即得所述抛光液。本发明抛光液经雾化使用，操作简单，消耗量小，抛光效率高，抛光后玻璃表面平整性好，不损伤抛光机，无污染。

公开(公告)号：CN104017501A

公开(公告)日：2014-09-03

申请号：CN201410258142.8

申请日：2014-06-12

Applicant: 江南大学

Inventor： 李庆忠 ,  莫益栋

IPC: C09G1/02

Abstract: 一种适用于TFT-LCD玻璃基板的超声雾化型抛光液，所用原料包括氧化铈、硅溶胶、去离子水、pH调节剂、表面活性剂；本适用于TFT-LCD玻璃基板的超声雾化型抛光液由下述生产步骤得到：首先将1~10份的氧化铈溶于25~30份的去离子水，搅拌加入16~50份的硅溶胶至溶液无絮状物，然后加入pH调节剂和去离子水来调节溶液pH为10~12，最后加入0.5~2份表面活性剂，充分溶解后超声分散10~30分钟，即得所述抛光液。本发明抛光液经雾化使用，操作简单，消耗量小，抛光效率高，抛光后玻璃表面平整性好，不损伤抛光机，无污染。