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公开(公告)号:CN108209115A
公开(公告)日:2018-06-29
申请号:CN201711351631.8
申请日:2017-12-15
CPC classification number: A61Q5/00 , A45D1/04 , A45D2/001 , A45D34/04 , A45D2001/002 , A45D2001/008 , A45D2034/005 , A61K8/585 , A61K8/892 , A61K2800/31
Abstract: 本发明涉及一种用于头发处理装置的无水组合物形式的化妆产品的再填充器。所述化妆产品的再填充器(20)包括填充有无水组合物、特别是油的涂抹器构件(26),其中,所述涂抹器构件的密度在0.11g/cm3和0.25g/cm3之间,以及所述无水组合物在22℃下的粘度在100厘泊和600厘泊之间、优选地在100厘泊和500厘泊之间。本发明还涉及设置有这类再填充器的头发处理装置。
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公开(公告)号:CN108209114A
公开(公告)日:2018-06-29
申请号:CN201711340786.1
申请日:2017-12-14
CPC classification number: A45D1/00 , A45D2/001 , A45D2001/002 , A45D2034/005
Abstract: 本发明涉及一种用于头发处理装置的化妆产品再填充器。所述化妆产品再填充器包括填充有液体化妆产品的涂抹器构件,涂抹器构件的填充程度小于或等于90%、优选地小于或等于80%、更优选地小于或等于70%,填充程度被定义为涂抹器构件中化妆产品的质量除以涂抹器构件所能够填充的化妆产品的最大质量的比值。
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公开(公告)号:CN102984967B
公开(公告)日:2016-03-09
申请号:CN201180034244.6
申请日:2011-05-11
Applicant: 欧莱雅
CPC classification number: A45D7/06 , A45D1/04 , A45D2/001 , A45D2001/008 , A45D2200/207
Abstract: 本发明涉及一种美发用头发处理方法,该方法至少包括以下步骤:a)对所述头发施加机械拉伸,b)在与所述头发接触的蒸汽形式的溶剂的存在下,将处于机械拉伸的所述头发暴露于微波,而在暴露于微波期间所述头发没有完全干燥,所述蒸汽形式的溶剂完全是通过在发射微波之前所存在的与所处理的头发接触的化合物的蒸发而产生的。
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公开(公告)号:CN114128971B
公开(公告)日:2024-04-12
申请号:CN202111372672.1
申请日:2018-02-12
Applicant: 欧莱雅
Abstract: 本发明提供一种头发处理装置和美容方法。用于处理至少一绺头发的装置包括:‑至少一个用于对头发施加机械应力的装置(20),‑防微波腔室,该防微波腔室被配置成容纳机械应力施加装置(20)和待处理的头发的至少一部分,‑螺旋形微波发射天线(30),该螺旋形微波发射天线(30)放置在机械应力施加装置(20)内。
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公开(公告)号:CN107028318B
公开(公告)日:2021-05-07
申请号:CN201611207867.X
申请日:2016-12-23
Inventor: 皮埃尔·迪里夫 , 杰罗姆·特奥戈欧驰 , 马夏尔·迈松纳沃 , 赛维尔·瓦舍龙 , 巴普蒂斯特·博纳迈尔 , 安妮·德鲍格 , 爱德华·梅萨热 , 迦本·维克 , 弗雷德里克·伍德兰 , 斯蒂芬妮·努左 , 桑迪·拉比泽
Abstract: 本发明涉及一种用于处理头发的器具,所述器具具有两个在待处理的所述头发上闭合的臂,所述臂中的至少一者承载头发处理产品的再填充器,所述器具具有电子控制电路,所述电子控制电路具有电子存储器,所述电子控制电路被设计为检测所述臂的闭合和所述再填充器的装配,所述器具具有用于将蒸汽输出到所述头发上的蒸汽发生器和至少一个加热的拉直板,所述器具被设计成在所述再填充器已经改变之后在所述器具使用期间在所述存储器中使变量递增,且被设计成当所述变量超过第一预定阈值时,进入操作的降级模式,在所述降级模式中,所述蒸汽发生器和/或所述拉直板的操作被改变。
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公开(公告)号:CN106061316B
公开(公告)日:2019-11-12
申请号:CN201480076498.8
申请日:2014-12-19
Abstract: 本发明涉及一种用于处理头发的用具的再填充器(20),包括:‑包含护发产品且包括与该产品接触的刚性的或半刚性的主体(86)的储存部(23),‑用于分配在储存部(23)中包含的产品的端件(53),‑设置在分配端件(53)和储存部(23)之间的流体连接部,‑用于分配端件(53)、流体连接部和至少一部分储存部(23)的支架(83),该支架以整体的方式制成,所述再填充器(20)沿着纵向轴线(Z)延伸,沿着所述纵向轴线(Z)测量的支架(83)的长度(l)小于再填充器(20)的长度(Lrech)。
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