公开(公告)号：CN103403877A

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：CN201180068902.3

申请日：2011-03-18

Applicant: 欧姆龙株式会社

Inventor： 大前庆佑 ,  森哲也 ,  早瀬哲生 ,  中岛诚二 ,  西口真理子

IPC: H01L31/0264 ,  G01J1/02 ,  G01L9/02 ,  G01L11/02 ,  G01N27/04 ,  G01N27/12

CPC classification number: H01L31/0248 ,  G01L9/02 ,  G01L11/02 ,  G01N27/126 ,  G01N33/005

Abstract: 本发明提供具有经湿式处理而成膜的氧化金属膜，并能够测定光照射、氢气和气压的传感器及其制造方法。本发明的传感器具有通过以下方法制造的氧化金属膜，且能够检测光、氢气和气压，该方法包含：有机膜形成工序，利用基底组合物形成有机膜，该基底组合物包含具有3个以上反应基的加聚性化合物、具有酸性基的加聚性化合物、具有亲水性官能团的加聚性化合物；金属盐生成工序，将所述酸性基转换成金属（M1）盐；金属固定工序，通过用金属（M2）离子水溶液进行处理，将所述酸性基的金属（M1）盐转换为金属（M2）盐；还原工序，还原所述金属（M2）离子，从而在所述有机膜表面形成金属膜；氧化工序，对所述金属膜进行氧化。

公开(公告)号：CN103403877B

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201180068902.3

申请日：2011-03-18

Applicant: 欧姆龙株式会社

Inventor： 大前庆佑 ,  森哲也 ,  早瀬哲生 ,  中岛诚二 ,  西口真理子

IPC: H01L31/0264 ,  G01J1/02 ,  G01L9/02 ,  G01L11/02 ,  G01N27/04 ,  G01N27/12

CPC classification number: H01L31/0248 ,  G01L9/02 ,  G01L11/02 ,  G01N27/126 ,  G01N33/005

Abstract: 本发明提供具有经湿式处理而成膜的氧化金属膜，并能够测定光照射、氢气和气压的传感器及其制造方法。本发明的传感器具有通过以下方法制造的氧化金属膜，且能够检测光、氢气和气压，该方法包含：有机膜形成工序，利用基底组合物形成有机膜，该基底组合物包含具有3个以上反应基的加聚性化合物、具有酸性基的加聚性化合物、具有亲水性官能团的加聚性化合物；金属盐生成工序，将所述酸性基转换成金属（M1）盐；金属固定工序，通过用金属（M2）离子水溶液进行处理，将所述酸性基的金属（M1）盐转换为金属（M2）盐；还原工序，还原所述金属（M2）离子，从而在所述有机膜表面形成金属膜；氧化工序，对所述金属膜进行氧化。