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公开(公告)号：CN209194043U
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201821721176.6
申请日：2018-10-23
Applicant: 欣旺达电子股份有限公司
Abstract: 本实用新型提供一种离子溅射仪，包括离子溅射仪本体和设置于离子溅射仪本体内的自动旋转样品架，自动旋转样品架用于在离子溅射仪本体对样品进行溅射镀膜时支撑并旋转样品。本实用新型提供的离子溅射仪，通过在离子溅射仪本体上设置自动旋转样品架，实现离子溅射仪对样品进行喷镀的同时，对样品进行旋转，进而实现对样品进行全面地、均匀地喷镀，避免了因喷镀不均匀或局部喷镀不到位，而需进行重复喷镀，造成不必要的浪费，降低了对靶头的消耗。
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