公开(公告)号：CN112236667B

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN201980037896.1

申请日：2019-06-05

Applicant: 横河电机株式会社

Inventor： 村山广大 ,  伊东笃志 ,  小川润一 ,  宫崎俊一

IPC: G01N21/359 ,  G01N21/3577

Abstract: 本公开所涉及的光学分析系统(1)具备：照射部(11)，在合成第一原料(A)和第二原料(B)而得到产物(AB)的化学反应系统(30)中，向合成开始前的第一原料(A)和第二原料(B)分别照射照射光(L1)，并且向合成开始后的混合物(C)照射照射光(L1)；检测部(12)，检测包含与第一原料(A)、第二原料(B)及混合物(C)各自的分光光谱有关的信息的测定光(L2)；以及运算部(22)，计算第一原料(A)、第二原料(B)及混合物(C)各自的分光光谱，并计算产物(AB)的分光光谱。

公开(公告)号：CN117129517A

公开(公告)日：2023-11-28

申请号：CN202310562791.6

申请日：2023-05-18

Applicant: 横河电机株式会社

Inventor： 真锅优佳 ,  小川润一 ,  今村优佑

IPC: G01N25/20 ,  G01N25/00

Abstract: 本公开提供了一种反应分析系统，其包括：第一流路，通过在混合器中混合反应物而获得的反应流体流过第一流路；第二流路，反应流体流过第二流路，并且第二流路的热交换效率比第一流路高；温度测量器，该温度测量器测量反应流体沿第一流路的温度分布；以及反应分析设备，该反应分析设备基于反应参数来识别反应流体的反应状态。反应参数从所测量的温度分布获得并且指示反应流体的反应状态。

公开(公告)号：CN119096134A

公开(公告)日：2024-12-06

申请号：CN202380031466.5

申请日：2023-03-13

Applicant: 横河电机株式会社

Inventor： 小川润一

IPC: G01N21/59

Abstract: 本发明涉及的光学测定装置(10)具有：第1照射部(11a)，其对移动的试样的移动路径上的一个第1照射区域(R1)照射激励光(L1)；第2照射部(11b)，其对移动路径上位于比一个第1照射区域(R1)更靠试样的移动方向侧的位置的第2照射区域(R2)照射探测光(L2)；检测部(12b1)，其对由第2照射部(11b)向试样照射后的探测光(L2)进行检测；以及控制部(15)，其基于在因激励光(L1)的激励产生的试样的光学参数的过渡响应中在互不相同的多个时间点各自从试样透过，而利用检测部(12b1)在不同的定时检测出的探测光(L2)的检测强度，对多个时间点的光学参数进行计算，基于计算出的光学参数对试样的物性参数进行计算。

公开(公告)号：CN112714863B

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN201980059870.7

申请日：2019-09-11

Applicant: 横河电机株式会社

Inventor： 小川润一 ,  宫崎俊一

IPC: G01K11/12

Abstract: 本发明提供温度测定装置(10)，具备：第一照射部(11a)，向化学反应系统(20)所含物质照射脉冲状的激发光(L1)；第二照射部(11b)，向物质照射探测光(L2)；检测部(12)，检测由第二照射部(11b)向物质照射后的探测光(L2)；以及控制部(15)，根据检测部(12)检测的探测光(L2)的检测强度的相关信息，计算化学反应系统(20)所含物质的温度。

公开(公告)号：CN112714863A

公开(公告)日：2021-04-27

申请号：CN201980059870.7

申请日：2019-09-11

Applicant: 横河电机株式会社

Inventor： 小川润一 ,  宫崎俊一

IPC: G01K11/12

Abstract: 本发明提供温度测定装置(10)，具备：第一照射部(11a)，向化学反应系统(20)所含物质照射脉冲状的激发光(L1)；第二照射部(11b)，向物质照射探测光(L2)；检测部(12)，检测由第二照射部(11b)向物质照射后的探测光(L2)；以及控制部(15)，根据检测部(12)检测的探测光(L2)的检测强度的相关信息，计算化学反应系统(20)所含物质的温度。

公开(公告)号：CN112262150A

公开(公告)日：2021-01-22

申请号：CN201980038990.9

申请日：2019-05-28

Applicant: 横河电机株式会社

Inventor： 布施新一郎 ,  中村浩之 ,  小竹佑磨 ,  小川润一 ,  宫崎俊一 ,  伊东笃志

IPC: C07K1/06 ,  C07K1/10

Abstract: 一种酰胺的制备方法，该方法包括使侧链的两处氨基或亚氨基被保护基保护的精氨酸、精氨酸衍生物或精氨酸类似物同卤化甲酸酯反应后，再与胺进行反应。

公开(公告)号：CN112262149A

公开(公告)日：2021-01-22

申请号：CN201980039282.7

申请日：2019-05-28

Applicant: 横河电机株式会社

Inventor： 布施新一郎 ,  中村浩之 ,  小竹佑磨 ,  小川润一 ,  宫崎俊一 ,  伊东笃志

IPC: C07K1/02 ,  C07K1/10

Abstract: 一种酰胺的制备方法，其在使羧酸之间脱水缩合后，再与碱进行反应，然后与胺进行反应。

公开(公告)号：CN112236667A

公开(公告)日：2021-01-15

申请号：CN201980037896.1

申请日：2019-06-05

Applicant: 横河电机株式会社

Inventor： 村山广大 ,  伊东笃志 ,  小川润一 ,  宫崎俊一

IPC: G01N21/359 ,  G01N21/3577

Abstract: 本公开所涉及的光学分析系统(1)具备：照射部(11)，在合成第一原料(A)和第二原料(B)而得到产物(AB)的化学反应系统(30)中，向合成开始前的第一原料(A)和第二原料(B)分别照射照射光(L1)，并且向合成开始后的混合物(C)照射照射光(L1)；检测部(12)，检测包含与第一原料(A)、第二原料(B)及混合物(C)各自的分光光谱有关的信息的测定光(L2)；以及运算部(22)，计算第一原料(A)、第二原料(B)及混合物(C)各自的分光光谱，并计算产物(AB)的分光光谱。