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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108417424A
公开(公告)日：2018-08-17
申请号：CN201810466180.0
申请日：2018-05-16
Applicant: 桂林电子科技大学 , 桂林旭研机电科技有限公司
Abstract: 本发明提供了一种按键组件，其包括底座和至少两个焊脚组件，至少两个焊脚组件中的每一个包括支架和至少一个焊脚；支架嵌于底座内，支架为弯折结构，支架围合形成安装区域；至少一个焊脚的一端与支架相连接，至少一个焊脚的另一端背离底座弯折且穿过安装区域延伸至支架的下方，至少一个焊脚凸出于底座的底壁。本发明通过使焊脚的另一端从安装区域穿过以确保焊脚不外露于底座的边缘，防止多个按键组件排布时，相邻按键组件的底座相接触而影响按键组件的使用性能，满足按键组件在高密度、高集成度的场合的应用需求。
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公开(公告)号：CN110965939B
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN201911338848.4
申请日：2019-12-23
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: E21B7/04 , E21B7/10 , E21B47/022 , G01C17/32
Abstract: 本发明提供了一种基于电子罗盘定向的矿山打孔系统，包括水平打孔装置和垂直打孔装置，所述水平打孔装置包括：钻孔机构；支撑机构，其包括前端板和后端板，所述前端板的后端上面与所述钻孔机构的前端相连，所述后端板的前端上面与钻孔机构的后端相连；前端调整机构，用于实现所述前端板的升降；后端调整机构，用于实现所述后端板的升降；定向机构，其固定在所述钻孔机构的上面，与所述钻孔机构的打孔方向平行。利用定向机构中电子罗盘仪在地磁场中的测向原理，实时提供精准的打孔机方向和三维姿态的显示，且设置了相应的调节机构对打孔机的姿态进行调整，以保证三个孔相互垂直。
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公开(公告)号：CN110965939A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201911338848.4
申请日：2019-12-23
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: E21B7/04 , E21B7/10 , E21B47/022 , G01C17/32
Abstract: 本发明提供了一种基于电子罗盘定向的矿山打孔系统，包括水平打孔装置和垂直打孔装置，所述水平打孔装置包括：钻孔机构；支撑机构，其包括前端板和后端板，所述前端板的后端上面与所述钻孔机构的前端相连，所述后端板的前端上面与钻孔机构的后端相连；前端调整机构，用于实现所述前端板的升降；后端调整机构，用于实现所述后端板的升降；定向机构，其固定在所述钻孔机构的上面，与所述钻孔机构的打孔方向平行。利用定向机构中电子罗盘仪在地磁场中的测向原理，实时提供精准的打孔机方向和三维姿态的显示，且设置了相应的调节机构对打孔机的姿态进行调整，以保证三个孔相互垂直。
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公开(公告)号：CN208240541U
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201820725175.2
申请日：2018-05-16
Applicant: 桂林电子科技大学 , 桂林旭研机电科技有限公司
Abstract: 本实用新型提供了一种按键组件，其包括底座和至少两个焊脚组件，至少两个焊脚组件中的每一个包括支架和至少一个焊脚；支架嵌于底座内，支架为弯折结构，支架围合形成安装区域；至少一个焊脚的一端与支架相连接，至少一个焊脚的另一端背离底座弯折且穿过安装区域延伸至支架的下方，至少一个焊脚凸出于底座的底壁。本实用新型通过使焊脚的另一端从安装区域穿过以确保焊脚不外露于底座的边缘，防止多个按键组件排布时，相邻按键组件的底座相接触而影响按键组件的使用性能，满足按键组件在高密度、高集成度的场合的应用需求。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN211623320U
公开(公告)日：2020-10-02
申请号：CN201922333184.4
申请日：2019-12-23
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: E21B7/04 , E21B7/10 , E21B47/022 , G01C17/32
Abstract: 本实用新型提供了一种基于电子罗盘定向的矿山打孔系统，包括水平打孔装置和垂直打孔装置，所述水平打孔装置包括：钻孔机构；支撑机构，其包括前端板和后端板，所述前端板的后端上面与所述钻孔机构的前端相连，所述后端板的前端上面与钻孔机构的后端相连；前端调整机构，用于实现所述前端板的升降；后端调整机构，用于实现所述后端板的升降；定向机构，其固定在所述钻孔机构的上面，与所述钻孔机构的打孔方向平行。利用定向机构的电子罗盘仪在地磁场中的测向原理，实时提供精准的打孔机方向和三维姿态的显示，且设置了相应的调节机构对打孔机的姿态进行调整，以保证三个孔相互垂直。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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