一种n型半导体有机薄膜及肖特基特性自整流阻变存储器

    公开(公告)号:CN103400936A

    公开(公告)日:2013-11-20

    申请号:CN201310324856.X

    申请日:2013-07-30

    Abstract: 本发明公开了一种n型半导体有机薄膜及肖特基特性自整流阻变存储器。所述有机薄膜是由甲基丙烯酸甲酯和聚醚酰亚胺组成的共混物制成;所述肖特基特性自整流阻变存储器,包括底电极、沉积于底电极上的阻变层和沉积于阻变层上的上电极,所述底电极是导电薄膜电极,所述阻变层是n型PEI-MMA有机薄膜,所述上电极是金电极、银电极、铂电极、钯电极、铝电极、钛电极或铜电极。本发明不仅保持器件具有较好的双极性存储功能,而且增加了存储器的自整流功能,可避免存储器在三维集成时其1R结构存在的串扰问题,其自整流功能具有肖特基特性,较之pn结自整流阻变存储器,具有肖特基二极管带来的开关速度快,开关损耗小等一切优点,降低了功耗,提高了读写速度。

    一种MMA/BMI共聚物有机阻变存储器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103219464B

    公开(公告)日:2015-08-26

    申请号:CN201310155422.1

    申请日:2013-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种MMA/BMI共聚物有机阻变存储器及其制备方法,包括衬底,衬底上的底电极,旋涂于底电极上的共聚物有机阻变存储层和顶电极,其特征是:有机阻变存储层由甲基丙烯酸甲酯(MMA)和双马来酰亚胺(BMI)共聚物有机膜组成。制备时,将制备好的MMA/BMI预聚物溶液旋涂于底电极上,直接在底电极上完成共聚反应得到MMA/BMI共聚物,可以减少底电极与MMA/BMI共聚物有机功能层之间的接触电阻;所得MMA/BMI共聚物有机阻变存储器的性能优异,关态电流小于4nA,开关比高达108,具有良好的稳定性。

    一种有机阻变存储器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103219466B

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201310154664.9

    申请日:2013-04-28

    Abstract: 本发明提供了一种有机阻变存储器及其制备方法,包括由下至上叠接的衬底、下电极、阻变层、上电极,其特征是:存储结构为阵列式结构,阻变层的有机阻变转换材料为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和聚醚酰亚胺(PEI)的共混物。制备时,先在衬底上制备条状下电极,然后涂覆有机阻变层膜,低温固化后,在阻变层膜的表面制备交叉的条状电极,形成阵列存储结构。本发明的优点是,该有机阻变存储器具有高的开关比,稳定的存储性能,极小的关态电流,较低的制备温度。

    流延法制备合成高分子增强改性淀粉薄膜的方法

    公开(公告)号:CN103254454A

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN201310176825.4

    申请日:2013-05-14

    Abstract: 本发明公开了一种流延法制备合成高分子增强改性淀粉薄膜的方法,先将一定比例的淀粉与去离子水制成混合物放入反应器中,在80~95℃的环境下用搅拌器以250~320r/min的转速搅拌,糊化30min~1h,自然冷却到30~60℃;加入5~25份合成高分子水溶液或水乳液,搅拌1~2h;制得的溶液在凹型塑料薄膜模板上均匀地流延平铺成膜,在60~70℃真空干燥箱中烘干即可。本发明制备工艺简单,不需要任何有机小分子添加剂,制得的淀粉薄膜达到了包装薄膜(GB/T4456-1996)对拉伸强度性能的要求,且成本低,可降解,大大减少了白色污染。

    一种MMA/BMI共聚物有机阻变存储器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103219464A

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201310155422.1

    申请日:2013-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种MMA/BMI共聚物有机阻变存储器及其制备方法,包括衬底,衬底上的底电极,旋涂于底电极上的共聚物有机阻变存储层和顶电极,其特征是:有机阻变存储层由甲基丙烯酸甲酯(MMA)和双马来酰亚胺(BMI)共聚物有机膜组成。制备时,将制备好的MMA/BMI预聚物溶液旋涂于底电极上,直接在底电极上完成共聚反应得到MMA/BMI共聚物,可以减少底电极与MMA/BMI共聚物有机功能层之间的接触电阻;所得MMA/BMI共聚物有机阻变存储器的性能优异,关态电流小于4nA,开关比高达108,具有良好的稳定性。

    一种n型半导体有机薄膜及肖特基特性自整流阻变存储器

    公开(公告)号:CN103400936B

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201310324856.X

    申请日:2013-07-30

    Abstract: 本发明公开了一种n型半导体有机薄膜及肖特基特性自整流阻变存储器。所述有机薄膜是由甲基丙烯酸甲酯和聚醚酰亚胺组成的共混物制成;所述肖特基特性自整流阻变存储器,包括底电极、沉积于底电极上的阻变层和沉积于阻变层上的上电极,所述底电极是导电薄膜电极,所述阻变层是n型PEI-MMA有机薄膜,所述上电极是金电极、银电极、铂电极、钯电极、铝电极、钛电极或铜电极。本发明不仅保持器件具有较好的双极性存储功能,而且增加了存储器的自整流功能,可避免存储器在三维集成时其1R结构存在的串扰问题,其自整流功能具有肖特基特性,较之pn结自整流阻变存储器,具有肖特基二极管带来的开关速度快,开关损耗小等一切优点,降低了功耗,提高了读写速度。

    一种有机阻变存储器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103219466A

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201310154664.9

    申请日:2013-04-28

    Abstract: 本发明提供了一种有机阻变存储器及其制备方法,包括由下至上叠接的衬底、下电极、阻变层、上电极,其特征是:存储结构为阵列式结构,阻变层的有机阻变转换材料为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和聚醚酰亚胺(PEI)的共混物。制备时,先在衬底上制备条状下电极,然后涂覆有机阻变层膜,低温固化后,在阻变层膜的表面制备交叉的条状电极,形成阵列存储结构。本发明的优点是,该有机阻变存储器具有高的开关比,稳定的存储性能,极小的关态电流,较低的制备温度。

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