公开(公告)号：CN117684140A

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN202311713739.2

申请日：2023-12-13

申请人： 核工业西南物理研究院

发明人： 聂军伟 ,  陈庆川 ,  卢夑明 ,  但敏 ,  金凡亚 ,  陈伦江 ,  祝土富

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/50 ,  C23C14/02 ,  C23C14/54 ,  B82Y40/00

摘要： 本发明公开了一种多元纳米复合涂层制备设备，涉及低温等离子体技术领域，包括真空室；所述真空室内带有旋转工件架，所述真空室底部带有用于带动所述旋转工件架旋转的旋转电机；所述真空室顶部带有真空室盖，沿所述真空室盖的环向，所述真空室盖上带有若干磁控溅射靶和若干射频等离子体源，所述磁控溅射靶伸入所述真空室内，并向所述旋转工件架上的样品溅射金属粒子；所述射频等离子体源用于向所述旋转工件架上的样品发射活性粒子。采用本方案，可选择性的采用一个或若干个磁控溅射靶提供高纯金属粒子和等离子体源产生的高活性粒子，实现工件涂层沉积和清洗、反应沉积，实现多元不同组分复合涂层或多层梯度涂层制备，避免了高成本复合靶研制成本。