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公开(公告)号:CN114192093A
公开(公告)日:2022-03-18
申请号:CN202111340685.0
申请日:2021-11-12
Applicant: 核工业西南物理研究院
Inventor: 聂林 , 龚少博 , 王华杰 , 赵伟 , 柯锐 , 侯和爽 , 刘灏 , 许敏 , 王占辉
IPC: B01J19/12 , B01J19/02
Abstract: 本发明属于等离子体化学反应技术领域,具体涉及一种耐腐蚀的等离子体化学反应装置,采用微波直接激发等离子促进化学反应,可适用于氟气、四氟化碳等电离后具有强氧化性和腐蚀性的气他,且本方案无需高电压,具有较高的安全性。
公开(公告)号:CN114192093B
公开(公告)日:2023-03-24