磁盘用基板及其制造方法以及磁盘

    公开(公告)号:CN117859177A

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202280057623.5

    申请日:2022-08-25

    IPC分类号: G11B5/73 G11B5/02 G11B5/84

    摘要: 本发明的目的在于提供一种磁盘用基板及磁盘,其能够应对硬盘的高容量化,也能够维持硬盘的长期可靠性;以及提供一种制造方法,其能够制造具有上述特性的磁盘(用基板)。本发明为一种磁盘(用基板)及其制造方法,所述磁盘(用基板)具有一对主面,前述主面的至少一方的规定的热冲击试验后的25℃中的截止波长0.4~5.0mm的长波长波纹度Wa为2.0nm以下,特别在0.5~2.0nm,且截止波长0.08~0.45mm的短波长波纹度μWa为0.15nm以下,特别在0.05~0.15nm。

    磁盘及磁盘用基板
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118946931A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202380030321.3

    申请日:2023-03-06

    IPC分类号: G11B5/73 G11B5/84

    摘要: 本发明的目的在于,提供一种磁盘,为薄壁且平坦,不易发生物理错误。本发明是一种磁盘,在中心部具有孔,并且,厚度尺寸为0.60mm以下,将盘的半径设为R(mm),将从盘的中心起测定的半径方向距离设为r(mm),将在r/R为0.70以上且0.99以下的磁盘的外周侧区域,在不同的半径方向距离r1(mm)及r2(mm)的圆周上测定时的TIR设为TIR1(μm)及TIR2(μm)时,TIR1与TIR2之差(TIR1-TIR2)相对于磁盘的半径方向距离r1与半径方向距离r2之差(r1-r2)的比的绝对值|(TIR1-TIR2)/(r1-r2)|所表示的TIR的径向变化量ΔTIR为0.50μm/mm以下。

    磁盘用基板及其制造方法以及磁盘

    公开(公告)号:CN117897766A

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202280057631.X

    申请日:2022-08-25

    摘要: 本发明的目的在于提供一种磁盘用基板及其制造方法以及磁盘,所述磁盘用基板虽然较薄但长期使用后也能够保持高平坦度,能够应对硬盘的高容量化,且能够提高长期可靠性。本发明为一种磁盘用基板,对前述基板,将以120℃加热30分钟后以‑40℃冷却30分钟的过程设为1个循环时,将该循环反复进行200个循环的热冲击试验后在前述基板的表面以25℃测定的平坦度PV为12μm以下。本发明还包括在相同条件下具有相同的平坦度PV的磁盘。本发明进一步还包括这些磁盘用基板的制造方法。