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公开(公告)号：CN101750917A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN201010000570.2
申请日：2010-01-12
Applicant: 株式会社LG化学
Inventor： 朴珉春 , 闵盛晙 , 金璟晙 , 韩熙 , 高完熙
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂剥离剂组合物。更具体而言，通过包含一种基于苯并咪唑的化合物和一种基于三唑的化合物，本发明的光致抗蚀剂剥离剂组合物具有极好的光致抗蚀剂剥离能力，以及当光致抗蚀剂的下层膜含有钼(Mo)时对光致抗蚀剂的下层膜的极好的防腐蚀效果。
