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发明公开
用于确定光学膜的切割位置的方法有权转让

公开(公告)号：CN112351870A

公开(公告)日：2021-02-09

申请号：CN201980043812.5

申请日：2019-09-27

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 许淳基 , 郭文千 , 张应镇 , 金赞洙 , 李圭滉

IPC: B26D7/28 , G02B5/00 , B29D11/00 , B26D5/00

Abstract: 公开了确定纵长地光学膜的切割位置的方法，所述方法用以通过以长度方向上的一定间隔沿宽度方向切割光学膜来形成多个光学膜片材件。所述方法可以包括以下步骤：(a)基于光学膜的长度方向，预先获取关于光学膜的缺陷位置的信息；(b)基于长度方向上的正常切割间距条件和最小切割间距条件、以及关于光学膜的缺陷位置的信息，将光学膜的整个区域划分为用于导出所述多个切割位置的多个大计算区域；以及(c)从多个大计算区域中的在光学膜的长度方向上切割位置均未确定的区域确定切割位置。

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