基底
    1.
    发明公开
    基底 审中-实审

    公开(公告)号:CN118355320A

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202280080171.2

    申请日:2022-12-07

    Abstract: 本申请提供了包括间隔物图案的基底。本申请可以提供这样的基底:其应用于各种光学装置,能够均匀且稳定地保持基底之间的间隙,同时最大程度地确保有源区,而不会引起包括衍射现象等的任何光学缺陷。本申请还可以提供包括所述基底的光学装置。

    基底
    4.
    发明公开
    基底 审中-实审

    公开(公告)号:CN118435113A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202280080152.X

    申请日:2022-12-07

    Abstract: 本申请提供了包括间隔物图案的基底。本申请可以提供这样的基底:其应用于各种光学装置,能够均匀且稳定地保持基底之间的间隙,同时最大程度地确保有源区,而不会引起包括衍射现象等的任何光学缺陷。本申请还可以提供包括所述基底的光学装置。

    基底
    5.
    发明公开
    基底 审中-实审

    公开(公告)号:CN118339511A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202280080176.5

    申请日:2022-12-07

    Abstract: 本申请提供了包括间隔物图案的基底。本申请可以提供这样的基底:其应用于各种光学装置,能够均匀且稳定地保持基底之间的间隙,同时最大程度地确保有源区,而不会引起包括衍射现象等的任何光学缺陷。本申请还可以提供包括所述基底的光学装置。

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