公开(公告)号：CN117940522A

公开(公告)日：2024-04-26

申请号：CN202280061784.1

申请日：2022-10-26

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  金贤哲 ,  金雨渊 ,  洪在成

IPC: C09D183/04 ,  C09J7/40 ,  C09J7/38 ,  C08G77/04 ,  C08G77/20 ,  C08G77/08

Abstract: 本申请旨在提供可固化组合物，所述可固化组合物形成具有合适的离型剥离力和残留粘合率的固化产物，并在无需通过热或能量射线的固化过程的情况下使形成压敏粘合剂层的压敏粘合剂组合物固化。

公开(公告)号：CN115052945A

公开(公告)日：2022-09-13

申请号：CN202180012778.2

申请日：2021-08-26

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  朴俊范 ,  郑智惠 ,  徐光洙

IPC: C09D183/04 ,  C09D7/20 ,  C09D7/61 ,  C08L83/04 ,  C08J5/18 ,  C08J7/04

Abstract: 本公开内容涉及基于有机硅的涂覆组合物和包含其的基于有机硅的离型膜。

公开(公告)号：CN109844049A

公开(公告)日：2019-06-04

申请号：CN201880003829.3

申请日：2018-02-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金志惠 ,  徐基胜 ,  朴埈莹 ,  金章淳 ,  尹敬准

IPC: C09J7/40 ,  C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J11/06

Abstract: 提供了无基底的转移胶带，其包括：离型衬垫，所述离型衬垫包括重剥离表面和轻剥离表面；以及设置在重剥离表面上的转移膜层，其中在以3米/分钟的速率剥离转移膜层时，重剥离表面与转移膜层之间的离型剥离力为10g/in或更大且70g/in或更小。

公开(公告)号：CN115052945B

公开(公告)日：2023-06-20

申请号：CN202180012778.2

申请日：2021-08-26

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  朴俊范 ,  郑智惠 ,  徐光洙

IPC: C09D183/04 ,  C09D7/20 ,  C09D7/61 ,  C08L83/04 ,  C08J5/18 ,  C08J7/04

Abstract: 本公开内容涉及基于有机硅的涂覆组合物和包含其的基于有机硅的离型膜。

公开(公告)号：CN113056527B

公开(公告)日：2023-04-11

申请号：CN201980074273.1

申请日：2019-11-28

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  金美仙 ,  徐光洙

IPC: C09D7/63 ,  C09D7/20 ,  C09D183/04 ,  C09D5/20 ,  C09J7/40

Abstract: 本申请涉及涂覆组合物。本申请的涂覆组合物的组分之间具有优异的相容性。此外，存在由本申请的涂覆组合物形成的离型层对380nm或更大的波长的光具有低的透射率的优势。

公开(公告)号：CN107109149B

公开(公告)日：2021-01-26

申请号：CN201580058061.6

申请日：2015-10-26

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  金章淳

IPC: B32B27/28 ,  B32B27/36 ,  B32B27/08 ,  B32B7/12 ,  C09J7/40 ,  G01N19/04

Abstract: 提供了用于测量离型膜的剥离稳定性的方法，所述方法包括以下步骤：制备包括粘合层和附接在粘合层的两侧的轻剥离离型膜和中剥离离型膜的层合体；通过在0.3至3.0m/分钟的剥离速度下测量轻剥离离型膜与粘合层的离型强度获得轻剥离、低速离型强度；通过在0.3至3.0m/分钟的剥离速度下测量中剥离离型膜与粘合层的离型强度获得中剥离、低速离型强度；通过在10至30m/分钟的剥离速度下测量轻剥离离型膜与粘合层的离型强度获得轻剥离、高速离型强度；通过在10至30m/分钟的剥离速度下测量中剥离离型膜与粘合层的离型强度获得中剥离、高速离型强度；以及在通式1和2的基础上测量高速离型强度平衡和低速离型强度平衡。

公开(公告)号：CN107075305A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580050002.4

申请日：2015-09-17

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  金章淳

IPC: C09D183/04 ,  C09D7/12

CPC classification number: C09D183/04 ,  C08G77/12 ,  C08G77/20 ,  C08J7/04 ,  C08J7/047 ,  C08J2367/02 ,  C08J2483/04 ,  C08L63/04 ,  C09D5/20 ,  C09D7/63 ,  C09D7/65 ,  C08L83/00 ,  C08K5/56 ,  C08K5/01

Abstract: 提供了基于硅氧烷的涂层组合物，其包含：基于硅氧烷的树脂；基于硅氧烷的硬化剂；和热引发剂，其中，所述基于硅氧烷的涂层组合物还包含化学式1的基于硅氧烷的化合物。此外，提供了基于硅氧烷的剥离膜，其包括：基层；以及为所述基于硅氧烷的涂层组合物的固化产物的涂层。

公开(公告)号：CN118696100A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202380021772.0

申请日：2023-03-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  金贤哲

IPC: C09D183/06 ,  C09D5/20 ,  C09J7/40 ,  C08G77/20 ,  C08G77/12 ,  C08L83/06 ,  C08K5/5419

Abstract: 本申请可以提供化合物、离型组合物、离型层、离型膜和压敏粘合剂膜。本申请可以提供可以形成这样的离型层的化合物，所述离型层能够表现出适当水平的离型剥离力，并且具有优异的与基础膜的结合力和优异的耐溶剂性。此外，本申请可以提供这样的化合物：当已形成离型层时，所述离型层即使在被反复施加至压敏粘合剂层等的情况下也表现出稳定的残留粘附率。本申请还可以提供包含所述化合物的离型组合物和离型层，以及包括所述离型层的离型膜和压敏粘合剂膜。

公开(公告)号：CN114521210B

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN202180005518.2

申请日：2021-07-20

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  郑智惠 ,  徐光洙

IPC: C09D183/07 ,  C09D183/08 ,  C08J7/04 ,  C08L67/02

Abstract: 本公开内容涉及：基于有机硅的涂覆组合物，所述基于有机硅的涂覆组合物包含基于有机硅的树脂、基于有机硅的交联剂和金属催化剂，并且还包含由化学式1表示的引入有脲基的基于有机硅的化合物；以及包括涂层的基于有机硅的离型膜，所述涂层为所述基于有机硅的涂覆组合物的固化材料。

公开(公告)号：CN111712554B

公开(公告)日：2022-04-05

申请号：CN201980013357.4

申请日：2019-08-06

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 徐基胜 ,  金志惠 ,  金相还 ,  朴埈莹 ,  尹敬准

IPC: C09J7/38 ,  C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J7/40

Abstract: 本发明涉及粘合物理特性优异并且适于连续过程的无基底粘合剂带。