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公开(公告)号:CN115720585B
公开(公告)日:2024-08-30
申请号:CN202180044493.7
申请日:2021-08-20
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 直到现在,尚未获得在形成低温多晶硅膜时在约450℃下处理后具有优异尺寸稳定性和高耐热性的用作柔性显示器的基底的无色且透明的聚酰亚胺膜。本发明的一个实施方案的方面通过组合物或聚酰亚胺膜来实现,该组合物包含含有四羧酸二酐残基和具有至少一个芳族基团的胺残基的聚酰亚胺或其前体、和经具有至少一个芳族基团的有机阳离子改性的粘土矿物,其中粘土矿物相对于100质量份的聚酰亚胺或其前体的含量为大于3.0质量份至10质量份,并且其中固化产物是无色透明的,该聚酰亚胺膜包含经具有至少一个芳族基团的有机阳离子改性的粘土矿物并且具有10ppm或更小的线性膨胀系数、450℃或更高的玻璃化转变温度、10或更小的黄度指数和80%或更大的总透光率。
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公开(公告)号:CN115720585A
公开(公告)日:2023-02-28
申请号:CN202180044493.7
申请日:2021-08-20
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08K9/04
Abstract: 直到现在,尚未获得在形成低温多晶硅膜时在约450℃下处理后具有优异尺寸稳定性和高耐热性的用作柔性显示器的基底的无色且透明的聚酰亚胺膜。本发明的一个实施方案的方面通过组合物或聚酰亚胺膜来实现,该组合物包含含有四羧酸二酐残基和具有至少一个芳族基团的胺残基的聚酰亚胺或其前体、和经具有至少一个芳族基团的有机阳离子改性的粘土矿物,其中粘土矿物相对于100质量份的聚酰亚胺或其前体的含量为大于3.0质量份至10质量份,并且其中固化产物是无色透明的,该聚酰亚胺膜包含经具有至少一个芳族基团的有机阳离子改性的粘土矿物并且具有10ppm或更小的线性膨胀系数、450℃或更高的玻璃化转变温度、10或更小的黄度指数和80%或更大的总透光率。
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公开(公告)号:CN114747035A
公开(公告)日:2022-07-12
申请号:CN202080080234.5
申请日:2020-07-13
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本公开内容涉及提供用于显示装置的支撑基底,所述用于显示装置的支撑基底能够在实现有机EL显示装置的薄化和柔性的同时获得高的透明度。鉴于以上,本公开内容提供了用于显示装置的支撑基底,所述用于显示装置的支撑基底包括厚度为10μm至150μm的TFT玻璃基底和被安装成与TFT玻璃基底接触的厚度为150nm或更小的聚酰亚胺树脂层。
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