公开(公告)号：CN105683278B

公开(公告)日：2018-06-15

申请号：CN201480057898.4

申请日：2014-10-20

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 川本尚史 ,  酒井敦史 ,  瀬口哲哉 ,  山崎贤司

IPC: C08L23/02 ,  C08F2/44 ,  C08K5/524

CPC classification number: C08K5/524 ,  C08F2/44 ,  C08K5/005 ,  C08K5/134 ,  C08F110/06 ,  C08F4/6492 ,  C08F4/6543 ,  C08L23/02

Abstract: 本发明提供赋予具有烯属不饱和键的单体的聚合物充分的稳定化效果，并且能够抑制所得聚合物的溶剂残留量、防止发泡的发生的经稳定化的聚合物的制造方法。该经稳定化的聚合物的制造方法具备以下工序：以相对于将具有烯属不饱和键的单体进行聚合而得到的聚合物100质量份配混0.005～0.5质量份熔点为70℃以下的抗氧化剂的方式，将抗氧化剂在具有烯属不饱和键的单体的聚合前或聚合过程中添加至催化剂体系或聚合体系。

公开(公告)号：CN105683278A

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201480057898.4

申请日：2014-10-20

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 川本尚史 ,  酒井敦史 ,  瀬口哲哉 ,  山崎贤司

IPC: C08L23/02 ,  C08F2/44 ,  C08K5/524

CPC classification number: C08K5/524 ,  C08F2/44 ,  C08K5/005 ,  C08K5/134 ,  C08F110/06 ,  C08F4/6492 ,  C08F4/6543 ,  C08L23/02

Abstract: 本发明提供赋予具有烯属不饱和键的单体的聚合物充分的稳定化效果，并且能够抑制所得聚合物的溶剂残留量、防止发泡的发生的经稳定化的聚合物的制造方法。该经稳定化的聚合物的制造方法具备以下工序：以相对于将具有烯属不饱和键的单体进行聚合而得到的聚合物100质量份配混0.005～0.5质量份熔点为70℃以下的抗氧化剂的方式，将抗氧化剂在具有烯属不饱和键的单体的聚合前或聚合过程中添加至催化剂体系或聚合体系。