化妆品用基质及配合该基质而成的化妆品

    公开(公告)号:CN101052371A

    公开(公告)日:2007-10-10

    申请号:CN200580034026.7

    申请日:2005-10-06

    CPC classification number: C07C43/11 A61K8/86 A61K8/90 A61Q19/00 A61Q19/007

    Abstract: 本发明提供含有下述式(I)表示的烯化氧衍生物的化妆品用基质。Z-{O(AO)l(EO)m-(BO)nH}a(I),式(I)中,Z是具有3~9个羟基的化合物除去羟基后的残基;a为3~9;AO是碳原子数3~4的氧化烯基;EO是氧化乙烯基;l和m各自是碳原子数3~4的氧化烯基、氧化乙烯基的平均加成摩尔数,1≤l≤50,1≤m≤50;AO和EO的重量比(AO/EO)为1/5~5/1;AO和EO可以是无规加成也可以是嵌段加成。BO是碳原子数4的氧化烯基;n是其平均加成摩尔数,0.5≤n≤5。

    皮肤外用剂及皮肤清洁剂

    公开(公告)号:CN101522166A

    公开(公告)日:2009-09-02

    申请号:CN200780036164.8

    申请日:2007-09-28

    Abstract: 本发明的目的是提供皮肤外用剂,其具有皮肤粗糙改善效果,使用感尤其润滑感优异,无黏腻感,并且稳定性优异。另外,本发明的目的是提供皮肤清洁剂,其使用性能以及化妆品去除效果尤其优异。也就是说,本发明的皮肤外用剂特征在于含有由下式(I)所示的嵌段型氧化烯衍生物:Y-[O(EO)a-(AO)b-(EO)c-R]k(I),式中,Y是具有3~6个羟基的多元醇的除去了羟基的残基,k是所述多元醇的羟基数,EO是氧化乙烯基,AO是碳原子数3~6的氧化烯基,分别加成为嵌段状。a×k、b×k和c×k各自是氧化乙烯基、碳原子数3~6的氧化烯基、氧化乙烯基的平均加成摩尔数,0≤a×k≤100,1≤b×k≤100,0≤c×k≤100,其中(a+c)×k>1。相对于式(I)中的全部氧化乙烯基和碳原子数3~6的氧化烯基的总和,式(I)中的全部氧化乙烯基的比率为10~80质量%。R相同或不同,是碳原子数1~4的烃基。另外,本发明的皮肤清洁剂特征在于含有0.01~70质量%的由上式(I)所示的嵌段型氧化烯衍生物和0.1~20质量%的保湿剂。

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