公开(公告)号：CN1478152A

公开(公告)日：2004-02-25

申请号：CN01820010.9

申请日：2001-12-04

Applicant: 株式会社纳德研究所

Inventor： 中村卓司

IPC: C23C8/04 ,  B05C3/20 ,  B05C19/02 ,  B05D1/18

CPC classification number: B05C3/09 ,  B05C3/20 ,  B05C19/00 ,  B05C19/025 ,  B05C19/04 ,  B05C19/06 ,  B05D1/18 ,  B05D1/32 ,  B05D2401/32 ,  C23C8/04 ,  C23C24/00

Abstract: 本发明的涂布装置具有使在浸渍容器(内容器)内上升的所述流体(粉状体等)从上部的溢流缘溢流、移动至溢流体流入容器、再将其从该溢流体流入容器(外容器)的下部送回所述浸渍容器内的流体循环系统，浸渍容器的深度对内径之比为1/3～2/3。假如浸渍容器的深度太深，则在浸渍容器上方粉状体等绷紧，有可能会发生不能将被处理物顺利地插入的现象，但本发明中因为将浸渍容器的大小规定如上，所以能保持粉状体等的柔软性。