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公开(公告)号:CN103329047B
公开(公告)日:2016-02-10
申请号:CN201280006101.9
申请日:2012-01-12
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/07 , G03G5/0525 , G03G5/0567 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/0614 , G03G5/076 , G03G5/1476 , G03G5/14769 , G03G5/14791 , G03G5/14795
Abstract: 电子照相光电导体,包括:导电衬底;和导电衬底上至少光电导层,其中光电导层的最上面的表层包括通过化合物之间的聚合形成的三维交联膜,每一化合物含有电荷输送化合物和三个或更多个[(四氢-2H-吡喃-2-基)氧代]甲基基团,其中电荷输送化合物具有一个或多个芳环并且[(四氢-2H-吡喃-2-基)氧代]甲基基团连接电荷输送化合物的芳环,其中聚合在一些[(四氢-2H-吡喃-2-基)氧代]甲基基团已部分地分裂和消除之后开始,并且其中三维交联膜具有5.4或更高的电离电位。
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公开(公告)号:CN103329047A8
公开(公告)日:2013-11-13
申请号:CN201280006101.9
申请日:2012-01-12
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 电子照相光电导体,包括:导电衬底;和导电衬底上至少光电导层,其中光电导层的最上面的表层包括通过化合物之间的聚合形成的三维交联膜,每一化合物含有电荷输送化合物和三个或更多个[(四氢-2H-吡喃-2-基)氧代]甲基基团,其中电荷输送化合物具有一个或多个芳环并且[(四氢-2H-吡喃-2-基)氧代]甲基基团连接电荷输送化合物的芳环,其中聚合在一些[(四氢-2H-吡喃-2-基)氧代]甲基基团已部分地分裂和消除之后开始,并且其中三维交联膜具有5.4或更高的电离电位。
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公开(公告)号:CN103038709A
公开(公告)日:2013-04-10
申请号:CN201180037290.1
申请日:2011-07-29
Applicant: 株式会社理光
IPC: G03G5/147
CPC classification number: G03G5/0648 , G03G5/0521 , G03G5/0644 , G03G5/0661 , G03G5/071 , G03G5/14708 , G03G5/14717 , G03G5/14791 , G03G5/14795
Abstract: 电子照相光电导体,包括传导支撑物、电荷产生层、空穴传输层和空穴传输-保护层,这些层以这样的顺序被层压在传导支撑物上,其中空穴传输-保护层包含三维交联产物,其通过用激活能量束照射自由基可聚合空穴传输化合物来链聚合至少自由基可聚合空穴传输化合物而获得,并且其中空穴传输-保护层包含由下面通式(1)或(2)表示的唑化合物:通式(1)、通式(2)。
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公开(公告)号:CN102482245A
公开(公告)日:2012-05-30
申请号:CN201080040016.5
申请日:2010-09-06
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: C07D403/14 , C07D487/04 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/0614 , G03G5/0629 , G03G5/0661 , G03G5/071
Abstract: 由以下通式(1)表示的呋喃衍生物:其中,Ar1和Ar2每一个独立地表示可具有取代基的芳基基团,并且R1表示C1-C6亚烷基基团。
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公开(公告)号:CN101038451B
公开(公告)日:2011-11-16
申请号:CN200610130995.9
申请日:2006-12-27
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/14734 , G03G5/14786 , G03G5/14791 , G03G5/14795
Abstract: 一种图像承载部件,包含基底和通过光固化至少一种具备电荷传输结构的可自由基聚合的化合物和不具备电荷传输结构的可自由基聚合的单体形成的表层,其中在光固化之前表层对比表层的光吸收谱的吸收端波长长25nm波长的光的透射系数不少于65%。
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公开(公告)号:CN101144989A
公开(公告)日:2008-03-19
申请号:CN200710154059.6
申请日:2007-09-13
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/14791 , G03G5/0542 , G03G5/0546 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/0614 , G03G5/075 , G03G5/076 , G03G5/14704 , G03G5/14708 , G03G5/14734 , G03G5/14795
Abstract: 提供了一种电子照相光电导体,其至少包括导电基底;包含电荷产生材料和电荷输运材料的光电导层;和被置于光电导层之上的表面层,按这个顺序排列,其中表面层为交联树脂,其至少包括:三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、具有热固化或自由基聚合官能团的电荷输运材料、具有自由基聚合官能团的硅氧烷化合物、具有自由基聚合官能团的氟化表面活性剂和具有自由基聚合官能团的硅氧烷化合物移动材料,该硅氧烷化合物移动材料对于硅氧烷化合物,具有55mN/m或以上到65mN/m以下的润湿性。
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公开(公告)号:CN101071280A
公开(公告)日:2007-11-14
申请号:CN200710128835.5
申请日:2007-03-12
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/071 , G03G5/0542 , G03G5/0546 , G03G5/0589 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/1473 , G03G5/14734 , G03G5/14786 , G03G5/14791 , G03G5/14795
Abstract: 本发明提供了一种包括导电基底、覆盖导电基底的光敏层和覆盖光敏层的最外层的感光体,其中最外层通过不具有电荷传输结构的可自由基聚合的化合物、包括具有特定化学式的化合物,与具有电荷传输结构的可自由基聚合的化合物之间的反应,同时将热、光或电离辐射施加给反应而形成,并且其中光敏层和最外层中至少之一包括至少一种具有烷氨基的芳甲烷化合物或具有特定化学式的化合物。
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公开(公告)号:CN1811605A
公开(公告)日:2006-08-02
申请号:CN200510121643.2
申请日:2005-11-21
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/0546 , G03G5/0532 , G03G5/0542 , G03G5/0553 , G03G5/0589 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/0614 , G03G5/071 , G03G5/1473 , G03G5/14734 , G03G5/14743 , G03G5/14786 , G03G5/14791
Abstract: 一种电照相光受体,包括导电基底;和位于该导电基底之上的光敏层,该光敏层包括在其表面的交联层,该交联层通过一种方法来形成,该方法包括:在光敏层上涂敷涂敷液,该涂敷液包括溶剂;具有三个或更多官能团且没有电荷传输结构的自由基聚合单体;和具有电荷传输结构的自由基聚合化合物;以及照射该涂敷液以使之硬化,同时控制该光敏层的表面具有不高于该溶剂沸点的温度。
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公开(公告)号:CN102482245B
公开(公告)日:2015-05-13
申请号:CN201080040016.5
申请日:2010-09-06
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: C07D403/14 , C07D487/04 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/0614 , G03G5/0629 , G03G5/0661 , G03G5/071
Abstract: 由以下通式(1)表示的呋喃衍生物:其中,Ar1和Ar2每一个独立地表示可具有取代基的芳基基团,并且R1表示C1-C6亚烷基基团。
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公开(公告)号:CN103038709B
公开(公告)日:2015-01-07
申请号:CN201180037290.1
申请日:2011-07-29
Applicant: 株式会社理光
IPC: G03G5/147
CPC classification number: G03G5/0648 , G03G5/0521 , G03G5/0644 , G03G5/0661 , G03G5/071 , G03G5/14708 , G03G5/14717 , G03G5/14791 , G03G5/14795
Abstract: 电子照相光电导体,包括传导支撑物、电荷产生层、空穴传输层和空穴传输-保护层,这些层以这样的顺序被层压在传导支撑物上,其中空穴传输-保护层包含三维交联产物,其通过用激活能量束照射自由基可聚合空穴传输化合物来链聚合至少自由基可聚合空穴传输化合物而获得,并且其中空穴传输-保护层包含由下面通式(1)或(2)表示的唑化合物:通式(1)、通式(2)。
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