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公开(公告)号：CN101013277B
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200610064474.8
申请日：2006-11-21
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/14708
Abstract: 本发明提供了一种包括基底和覆盖在基底上的光敏层的静电潜像承载元件，其中静电潜像承载元件的最外层包括由具有特定结构式的电荷输送多元醇和异氰酸酯化合物之间发生交联反应形成的交联树脂；和该静电潜像承载元件在成像设备、处理盒和成像方法中的应用。
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公开(公告)号：CN103472695B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310222704.9
申请日：2013-06-06
Applicant: 株式会社理光
IPC: G03G5/04
CPC classification number: G03G5/047 , G03G5/0521 , G03G5/0614
Abstract: 本发明的题目是感光器、图像形成装置、处理盒和图像形成方法。本发明涉及感光器、图像形成装置、处理盒和图像形成方法。感光器包括导电基底和层压结构，所述层压结构由至少电荷产生层和电荷输送层形成，并且设置为覆盖在导电基底上，其中电荷输送层包含电荷输送材料、由下述式1表示的化合物和由下述式2表示的化合物：式1中，R1和R2每个独立地表示取代的或非取代的烷基基团或芳族烃基团，并且R1和R2之一表示取代的或非取代的芳族烃基团，与相同氮原子键合的R1和R2可键合在一起以形成取代的或非取代的含氮杂环基团，并且Ar表示取代的或非取代的芳族烃基团；式2中，R3和R4每个独立地表示取代的或非取代的烷基基团或芳族烃基团。
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公开(公告)号：CN103472695A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201310222704.9
申请日：2013-06-06
Applicant: 株式会社理光
IPC: G03G5/04
CPC classification number: G03G5/047 , G03G5/0521 , G03G5/0614
Abstract: 本发明的题目是感光器、图像形成装置、处理盒和图像形成方法。本发明涉及感光器、图像形成装置、处理盒和图像形成方法。感光器包括导电基底和层压结构，所述层压结构由至少电荷产生层和电荷输送层形成，并且设置为覆盖在导电基底上，其中电荷输送层包含电荷输送材料、由下述式1表示的化合物和由下述式2表示的化合物：式1中，R1和R2每个独立地表示取代的或非取代的烷基基团或芳族烃基团，并且R1和R2之一表示取代的或非取代的芳族烃基团，与相同氮原子键合的R1和R2可键合在一起以形成取代的或非取代的含氮杂环基团，并且Ar表示取代的或非取代的芳族烃基团；式2中，R3和R4每个独立地表示取代的或非取代的烷基基团或芳族烃基团。
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公开(公告)号：CN101201560B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200710196163.1
申请日：2007-11-29
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 提供静电潜像承载元件以及使用该静电潜像承载元件的图像形成装置、图像形成方法和印刷墨盒，该静电潜像承载元件包括：含有下列通式(1)表示的化合物和异氰酸酯化合物与具有至少两个羟基的活性电荷输运物质之间交联形成的交联树脂的最外表面层，其中R1和R2可以相同或者不同，每一个代表取代的或未取代的烷基；R3代表具有至少一个羟基的烷基和芳基中一种。
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公开(公告)号：CN101063834A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200710102221.X
申请日：2007-04-27
Applicant: 株式会社理光
Inventor： 杉野显洋
CPC classification number: G03G5/0614 , G03G5/0525 , G03G5/0575 , G03G5/0592 , G03G5/0609 , G03G5/0618 , G03G5/0666 , G03G5/0668 , G03G5/0679 , G03G5/0698 , G03G5/075 , G03G5/076 , G03G5/14769 , G03G5/14791
Abstract: 本发明提供了一种包括基底和覆盖在基底上的光敏层的静电潜影承载体，该静电潜影承载体的最外层包括交联树脂，该交联树脂由包含具有特定结构式的电荷输送物质的具有2个或2个以上的羟基的多元醇与包括具有异氰酸酯基以及芳环的芳香族异氰酸酯化合物的异氰酸酯化合物之间发生交联反应形成的交联树脂。本发明还包括该静电潜影承载体在图像形成装置、处理盒和图像形成方法中的应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101889248B
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN200880119630.3
申请日：2008-12-04
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/0696 , G03G5/00 , G03G5/047 , G03G5/0542 , G03G5/056 , G03G5/0614 , G03G5/102 , G03G5/142 , G03G15/751 , G03G21/20 , G03G2215/00957
Abstract: 提供用于电子照相光电导体基底的温度控制单元，其包含可拆卸地置于圆柱形基底的空腔中的可拉伸的膜部件，其中膜部件被配置为连续伸展直到到达圆柱形基底的空腔的最深部分——其是将制冷剂引入其中以与圆柱形基底的整个内壁紧密接触的结果，和被配置为连续收缩至其最初形状——其是制冷剂从其释放的结果，以便膜部件可拆卸地位于空腔中，并且其中膜部件被配置为在圆柱形基底的表面和制冷剂之间经由与圆柱形基底的内表面紧密接触的膜部件进行传热，以控制圆柱形基底的表面温度。
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公开(公告)号：CN100559289C
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200710102221.X
申请日：2007-04-27
Applicant: 株式会社理光
Inventor： 杉野显洋
CPC classification number: G03G5/0614 , G03G5/0525 , G03G5/0575 , G03G5/0592 , G03G5/0609 , G03G5/0618 , G03G5/0666 , G03G5/0668 , G03G5/0679 , G03G5/0698 , G03G5/075 , G03G5/076 , G03G5/14769 , G03G5/14791
Abstract: 本发明提供了一种包括基底和覆盖在基底上的光敏层的静电潜影承载体，该静电潜影承载体的最外层包括交联树脂，该交联树脂由包含具有特定结构式的电荷输送物质的具有2个或2个以上的羟基的多元醇与包括具有异氰酸酯基以及芳环的芳香族异氰酸酯化合物的异氰酸酯化合物之间发生交联反应形成的交联树脂。本发明还包括该静电潜影承载体在图像形成装置、处理盒和图像形成方法中的应用。
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公开(公告)号：CN100440044C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200410103887.3
申请日：2004-09-13
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/14708 , G03G5/0614
Abstract: 本发明涉及一种包括光电导层，保护层，和导电支持体的电子照相光电导体，其中将保护层设置为光电导层的最外层，并且将20体积%-60体积%的含氟树脂微粒和至少一种选自胺芳族化合物和羟基芳族化合物的化合物加入到保护层中。根据本发明，可以实现高耐用性。可以控制由残余电势的升高和充电降低而产生的图象劣化，如滞后；并且即使在延长和重复使用之后，也能稳定地形成高质量的图象。本发明还涉及了一种分别利用电子照相光电导体的电子照相方法、电子照相装置和用于电子照相装置的处理盒。
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公开(公告)号：CN101889248A
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200880119630.3
申请日：2008-12-04
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G5/0696 , G03G5/00 , G03G5/047 , G03G5/0542 , G03G5/056 , G03G5/0614 , G03G5/102 , G03G5/142 , G03G15/751 , G03G21/20 , G03G2215/00957
Abstract: 提供用于电子照相光电导体基底的温度控制单元，其包含可拆卸地置于圆柱形基底的空腔中的可拉伸的膜部件，其中膜部件被配置为连续伸展直到到达圆柱形基底的空腔的最深部分——其是将制冷剂引入其中以与圆柱形基底的整个内壁紧密接触的结果，和被配置为连续收缩至其最初形状——其是制冷剂从其释放的结果，以便膜部件可拆卸地位于空腔中，并且其中膜部件被配置为在圆柱形基底的表面和制冷剂之间经由与圆柱形基底的内表面紧密接触的膜部件进行传热，以控制圆柱形基底的表面温度。
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公开(公告)号：CN101201560A
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200710196163.1
申请日：2007-11-29
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 提供静电潜像承载元件以及使用该静电潜像承载元件的图像形成装置、图像形成方法和印刷墨盒，该静电潜像承载元件包括：含有下列通式(1)表示的化合物和异氰酸酯化合物与具有至少两个羟基的活性电荷输运物质之间交联形成的交联树脂的最外表面层，其中R1和R2可以相同或者不同，每一个代表取代的或未取代的烷基；R3代表具有至少一个羟基的烷基和芳基中一种。
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