显影设备及包括该显影设备的成像装置

    公开(公告)号:CN101145014B

    公开(公告)日:2010-10-13

    申请号:CN200710154049.2

    申请日:2007-09-13

    CPC classification number: G03G15/0818 G03G2215/0609 G03G2215/0619

    Abstract: 一种显影设备和包括该显影设备的成像装置,就所携带的显影剂数量,可满足很长时间内的稳定性,并且可阻止显影剂滞留、显影剂受损和显影套筒粘附,其中在显影区域中显影载体上每单位面积携带的显影剂的数量在30[mg/cm2]到60[mg/cm2]之间;墨粉的重均粒径在4.5[μm]到8.0[μm]之间,墨粉重均粒径(Dw)和数均粒径(Dn)的比率[Dw/Dn]为1.20或更低;在显影剂载体表面上形成了表面粗糙度的最大高度Rz在20到40[μm]之间、和粗糙度的平均间距Sm在100到200[μm]之间的不规则粗糙度模式;和,显影间距PG与显影剂限制元件和显影剂载体之间的间距DG之间的关系为1.0≤(DG/PG)≤3.0。

    显影设备及包括该显影设备的成像装置

    公开(公告)号:CN101145014A

    公开(公告)日:2008-03-19

    申请号:CN200710154049.2

    申请日:2007-09-13

    CPC classification number: G03G15/0818 G03G2215/0609 G03G2215/0619

    Abstract: 一种显影设备和包括该显影设备的成像装置,就所携带的显影剂数量,可满足很长时间内的稳定性,并且可阻止显影剂滞留、显影剂受损和显影套筒粘附,其中在显影区域中显影载体上每单位面积携带的显影剂的数量在30[mg/cm2]到60[mg/cm2]之间;墨粉的重均粒径在4.5[μm]到8.0[μm]之间,墨粉重均粒径(Dw)和数均粒径(Dn)的比率[Dw/Dn]为1.20或更低;在显影剂载体表面上形成了表面粗糙度的最大高度Rz在20到40[μm]之间、和粗糙度的平均间距Sm在100到200[μm]之间的不规则粗糙度模式;和,显影间距PG与显影剂限制元件和显影剂载体之间的间距DG之间的关系为1.0≤(DG/PG)≤3.0。

Patent Agency Ranking